多弧離子PVD鍍膜設(shè)備鍍工藝及應(yīng)用

離子鍍基本工藝流程

①工件的預(yù)熱．

一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預(yù)熱的目的，有時電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進行預(yù)熱。

②離子轟擊濺射清洗．

一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產(chǎn)生的Ar離子轟擊基片，對基片進行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，Ar離子轟擊基片進行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時對工件進行離子轟擊濺射清洗。

③離子沉積.

不同的離子鍍方法在離子沉積時，所使用的源和離化方法不同，具體的設(shè)備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數(shù)也不同，因此，應(yīng)根據(jù)具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數(shù)，還應(yīng)注意在整個沉積過程中保持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。

真空鍍膜機鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機技術(shù)的不斷發(fā)展，使很多原來不能鍍膜的材料也得以實現(xiàn)鍍膜，但仍有一部分材料并未研發(fā)出解決方案，但我非常期待，因為科技是無窮的，很多以前不敢想象的技術(shù)，現(xiàn)在都實現(xiàn)了，將來必須會出現(xiàn)新的一頁。

對于真空鍍膜機的技術(shù)，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術(shù)性的發(fā)展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機進行鍍膜的，因為塑料本身所帶有的某些特性是目前的鍍膜技術(shù)仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機鍍膜呢，歸納起來，可以分三點來挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結(jié)合在一起，才能不易脫落，壽命長久，有些塑料沒辦法和臘層很好的結(jié)合在一起，研究人員發(fā)現(xiàn)在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結(jié)合的涂料，這樣就解決了附著力的問題，但這種涂料在與膜層能加強結(jié)合外，現(xiàn)時也要和塑料加強結(jié)合，同時滿足這兩種條件的涂料也不是說那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應(yīng)的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機鍍膜了。

其次，塑料本身必定會含有一些揮發(fā)性的雜質(zhì)，隨著溫度的上漲，會揮發(fā)逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發(fā)物質(zhì)是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時，要選擇放氣量少的，這樣對于真空鍍膜機運作時的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話就會控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質(zhì)量。

后就是塑料受熱的穩(wěn)定性，塑料受到廣泛使用就是因為其可以在加溫的狀態(tài)下按照設(shè)計者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機的鍍膜時的環(huán)境下，必定產(chǎn)生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩(wěn)定就會變形，即使鍍的膜層再好，工件已經(jīng)變形，又有什么用呢，所以對于塑料材料的鍍膜，都會使用產(chǎn)生的熱量低于工件熔點的真空鍍膜機，但有些塑料熔點實在在低的，目前的技術(shù)仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機的鍍膜。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)有以下三點：

一、漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備：

漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產(chǎn)品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時間。

光學(xué)真空鍍膜機清洗和保養(yǎng)方法

光學(xué)薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說，平時戴的眼鏡、數(shù)碼相機、各式家電用品，或者是防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。光學(xué)鍍膜技術(shù)以及普及到人們生活方方面面，因此光學(xué)真空鍍膜機也是大家目前非常關(guān)注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學(xué)真空鍍膜機在平時運行的時候該如何清洗和保養(yǎng)問題，希望能讓大家對光學(xué)真空鍍膜機多一些了解。

首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機的清洗問題：設(shè)備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時，應(yīng)對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈。

因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子槍及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。