在制作鋁蝕刻標(biāo)牌中,表面拋光怎樣才不傷到底色

1）蝕刻深度不能太淺；

2）填的漆料不能太稠，不能失去流動性。太稠的油漆容易高出牌面，更容易被拋光傷及。

3）填漆后再拋光，要用烤漆，如氨基烘漆（烘烤115－125度），也可用加固化劑的漆。普通硝基漆易拋掉。

4）填漆后要有足夠的干燥固化時間。

5）拋光時用力要均勻，盡量不要橫向豎向亂拋。

6）還有一個非常有效的方法就是預(yù)先拋光。一次拋得就比較亮了，在網(wǎng)印、腐蝕、清洗、填漆過程再稍加注意不要劃傷版面，那么后一次拋光就容易得多。一些精檔的金屬填漆標(biāo)牌都要拋兩遍光。

什么是蝕刻標(biāo)牌？

蝕刻標(biāo)牌是指金屬標(biāo)牌的圖片與金屬表面不在同一個表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標(biāo)牌有圖文的性，常用于機械設(shè)備標(biāo)牌和一些使用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標(biāo)識的場合。

蝕刻標(biāo)牌是傳統(tǒng)性的標(biāo)牌。減少污染的問題銅對水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問題﹐而氨堿蝕刻液的使用更加重了這個問題。一直業(yè)內(nèi)大家都習(xí)慣稱它為腐蝕標(biāo)牌。有人說叫它腐蝕標(biāo)牌不是很妥切，因為腐蝕一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結(jié)果；而蝕刻則是一種有意識、有選擇性的，為達到預(yù)期目的而實施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經(jīng)歷了二十多年的發(fā)展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統(tǒng)工藝。

負(fù)載（Loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量，可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蝕刻速率決定于縱橫比。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進行加工制做而成的凸字金屬標(biāo)牌或凹字金屬標(biāo)牌。 終點（Endpoint）-- 在一個蝕刻過程中，平均膜厚被蝕刻干凈時的時間點。 光刻膠（Photo-resist）-- 作為掩膜用來圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。 分辨率（Resolution）-- 用于測試光學(xué)系統(tǒng)把相鄰的目標(biāo)形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標(biāo)能形成影像的縱向距。 關(guān)鍵尺寸（Critical dimensi-CD）-- 一個特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者 關(guān)聯(lián)尺寸。