SCR脫硝系統(tǒng)影響氨逃逸率的主要因素分析

噴氨優(yōu)化調(diào)整對于現(xiàn)役SCR脫硝系統(tǒng)，在不改造系統(tǒng)設(shè)備的情況下，通過噴氨格柵優(yōu)化調(diào)整，可改善氨氮摩爾比分布的均勻性。脫硝系統(tǒng)一般由多個(gè)蝶閥等部件協(xié)同控制噴氨量，需要根據(jù)噴氨格柵截面內(nèi)的流場分布特性對各支管閥門進(jìn)行調(diào)整，保證良好的氨氮摩爾比分布，使各區(qū)域噴氨量與NOx流場相匹配，提高脫硝效率，避免局部區(qū)域過量噴氨而導(dǎo)致逃逸氨偏高；同時(shí)，可以通過改善反應(yīng)器出口NOx質(zhì)量濃度分布均勻性，減小取樣點(diǎn)的測量誤差，優(yōu)化控制系統(tǒng)參數(shù)，提高噴氨量控制的精準(zhǔn)。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測設(shè)備相關(guān)信息，歡迎來電咨詢。

對于NH3氨逃逸在線監(jiān)測的大致介紹

NH3氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用TDLAS技術(shù)（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)），為目前常用的氣體測量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應(yīng)速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點(diǎn)，為實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地反映NH3變化提供了可靠保證。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測設(shè)備相關(guān)信息，歡迎致電藍(lán)光電子詳詢，我們將會竭誠為您解答與服務(wù)。

氨逃逸的壞處你知道嗎

逃逸氨造成了設(shè)備腐蝕，使得維護(hù)費(fèi)用和工作量顯著增加。因此SCR/SNCR脫硝過程需要對氨逃逸進(jìn)行在線監(jiān)測分析，以便優(yōu)化SCR/SNCR工藝中還原劑氨的注入量，從而提高脫硝效率，避免環(huán)境污染。控制氨逃逸還能有效地減少銨鹽的生成，避免造成對下游設(shè)備的腐蝕和危害。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測設(shè)備相關(guān)信息，歡迎致電藍(lán)光電子詳詢。