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鈦合金微弧氧化技術(shù)規(guī)格齊全

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-31 07:15  






微弧氧化技術(shù)受哪些因素影響

1、時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng),膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化過(guò)后,工件可不經(jīng)過(guò)任何處理直接使用,也可進(jìn)行封閉,電泳,拋光等后續(xù)處理。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)



微弧氧化過(guò)程

       在微弧氧化處理過(guò)程中,待氧化試樣與電源正極相連,作為陽(yáng)極浸入電解液之中,不銹鋼電解槽作為陰極與電源負(fù)極相連。在開(kāi)通電源后,正脈沖電壓快速升高,電流迅速下降,作為陽(yáng)極的待氧化試樣開(kāi)始進(jìn)行陽(yáng)極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡,同時(shí)在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。微弧氧化,是在電解質(zhì)溶液中(一般是弱堿性溶液)施加高電壓(直流、交流或脈沖)在材料表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的過(guò)程,該過(guò)程是物理放電與電化學(xué)氧化、等離子體氧化協(xié)同作用的結(jié)果。當(dāng)外加脈沖電壓超過(guò)一定值時(shí),材料表面出現(xiàn)一層極細(xì)微均勻的放電火花,這種微區(qū)火花放電現(xiàn)象在試樣表面不同位置出現(xiàn),在待微弧氧化表面原位生長(zhǎng)陶瓷膜層,以達(dá)到強(qiáng)化材料表面的目的。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂


微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響

       微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù),所得膜層的性質(zhì)也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等),其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態(tài)。主要可用于對(duì)耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強(qiáng)化處理。溶液的pH范圍一般在9~13之間。根據(jù)膜層性質(zhì)的需要,可添加一些有機(jī)或無(wú)機(jī)鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下,電解質(zhì)濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源


微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

       采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁鎂鈦等輕金屬及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理,微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng),絕緣性好,膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。從微弧氧化電源技術(shù)要求來(lái)看,要實(shí)現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調(diào)節(jié)范圍寬,必定使電路復(fù)雜化、造價(jià)提高、可靠性降低。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對(duì)環(huán)境污染小,區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保,也符合我國(guó)可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝


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