真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊亞氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。

對一些產品，如許多板件、管件、鑄件、鍛件和化工用的槽池等，壁厚設計時除了要考慮必要的機械強度保障以外，還必須預留一些腐蝕余量；

真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。鏡頭的真空鍍膜是根據(jù)光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至較低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層真空鍍膜則可對多種色光起作用。

企業(yè)要獲得市場，只有不斷地使自己的產品質量滿足客戶的要求，讓客戶滿意，在客戶面前逐步培育起、持久的質量信譽。建立有效的電鍍產品質量保障體系并實施這些內容后，將進一步提高適應市場競爭的能力和管理的有效性。電鍍產品質量保障體系包括三個方面：一是設備保障體系;二是技術保障體系;三是管理保障體系。這三者相互依存，相互制約，又相互促進。


水電鍍因工藝較簡單，從設備到環(huán)境得要求均?有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應用.但水電鍍有個弱點，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的效果也不是很理想）。而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應用范Χ被限制了。而真空電鍍可達200℃左右，這對使用在高溫的部件就可以進行電鍍處理了。真空電鍍使用的鍍層材質廣泛、容易符合環(huán)保要求。簡單一點，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術。