真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

水鍍：分子結(jié)合。蒸鍍和濺鍍都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)。真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法。蒸鍍用金屬為Al、金等。一般的電鍍，就是指水鍍，水鍍是導(dǎo)電的，真空鍍現(xiàn)在有不連續(xù)鍍膜可以不導(dǎo)電因?yàn)殡婂円话闶怯米鞅砻?外觀面),濺鍍主要是做內(nèi)表面(防EMI,也有為小鍵做表面處理的,像一些按鍵)相對(duì)而言水電鍍的膜厚比較厚一點(diǎn)大約在0.01-0.02MM左右,真空濺鍍的膜厚在0.005MM左右,電鍍的耐磨性和附著力都相對(duì)好一些.

真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及好的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。下面，詳細(xì)介紹真空鍍膜機(jī)的各部分組成及其工作原理。

硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。

在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽能集熱管、太陽能電池等。

在集成電路制造中的應(yīng)用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。