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發(fā)布時(shí)間:2021-10-23 01:01  






堿類物質(zhì)。堿類助洗劑常用的為氫氧化吶、純堿、硅酸鈉和三聚磷酸鈉。氫氧化吶和純堿作為堿劑,價(jià)格為便宜,廢水較難處理,有時(shí)因?yàn)閴A性偏強(qiáng)導(dǎo)致清洗物體受到損傷,另一方面氫氧化吶和純堿沒有乳化作用對(duì)于礦物油清洗沒有任何效果;硅酸鈉與三聚磷酸鈉既能提供堿性,又能提供一定的乳化力,廣泛的用于各種除油清洗劑中特別是對(duì)堿敏感的除油工藝。使用硅酸鈉大的缺陷是除油后若不用熱水先洗一道,直接冷水洗很難將殘留的硅酸鈉完全洗凈,殘留的硅酸鈉會(huì)與下一道工序的酸反應(yīng)生成附著牢固的硅膠,從而影響鍍層的結(jié)合力;三聚磷酸鈉則主要存在磷污染破壞環(huán)境的擔(dān)憂。






(1)時(shí)間短:一般在60秒—200秒可以把工件上的各種化學(xué)油除凈。

(2)操作簡單:不用加溫(四季按常溫),直接按比例配自來水即可使用。

(3)環(huán)保產(chǎn)品:無毒、無氣味,不腐蝕底材,符合歐盟ROHS指令。

(4)省掉工序:除油一次,本產(chǎn)品在除油同時(shí)可以把工件表面上的氧化膜和一 些雜質(zhì)除去,起到拋光的作用,電鍍時(shí)出光快。

(5)消耗:只是帶水消耗,內(nèi)部成份基本不會(huì)發(fā)生變化,使用,補(bǔ)充也只是按比列配水添加至水位即可,(6)適用范圍廣:如鐵、銅、鋅合金、釬錫合金、鋁等各種底材都能達(dá)到其效果。

(7)本品是偏弱堿性,PH值在9.5左右。






濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn),一般由靶坯和背板組成。靶坯屬于濺射靶材的中心部分,是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料。靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強(qiáng)度較低,因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機(jī)臺(tái)環(huán)境內(nèi)完成濺射過程。超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。


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