真空電鍍機(jī)作業(yè)指導(dǎo)手冊(cè)真空電鍍機(jī)作業(yè)指導(dǎo)手冊(cè)

1.開機(jī)前檢查水路是否暢通.

2.檢查氣路是否暢通.

3.開啟電源,打開”維持泵”開關(guān),并觀查機(jī)器各部位是否運(yùn)行順暢.

4.進(jìn)入加熱過程.

溫州真空電鍍機(jī)價(jià)格5.完成加熱后進(jìn)入生產(chǎn)狀態(tài).

6.生產(chǎn)時(shí)在關(guān)倉(cāng)門前,檢查物料擺放是否符合要求,卻保不會(huì)碰撞.

7.生產(chǎn)過程中隨時(shí)觀查各部們運(yùn)行情況及顯示屏和各種參數(shù)指標(biāo).

8.工藝完成后,要輕開倉(cāng)門,手拉倉(cāng)門直至停穩(wěn).

9.停機(jī)時(shí)將真空門吸合,抽至一定的真空,關(guān)閉除”停機(jī)”外所有開關(guān).

10.待真空電鍍機(jī)冷卻至所需溫度時(shí),方可關(guān)閉電源,空壓機(jī),冷確塔,維持泵.

真空電鍍機(jī)使用范圍

真空電鍍機(jī)設(shè)備應(yīng)用廣泛，真空蒸發(fā)鍍膜主要有汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機(jī)、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業(yè)；PVC、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷、TPU等。

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

真空多弧離子鍍膜設(shè)備跟真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可對(duì)各種金屬進(jìn)行表面鍍膜.例如:鐘表行業(yè)(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(yè)（衛(wèi)生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業(yè)（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業(yè)（沖棒標(biāo)準(zhǔn)件模具、成型模具等）、工具行業(yè)（鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車工業(yè)（活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等）以及鋼筆、眼鏡等等。

真空電鍍機(jī)操作注意事項(xiàng)

左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。

當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

真空鍍膜機(jī)開通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開高壓閥（閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn)）。

等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開規(guī)管燈絲開關(guān)。

發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。

左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。

發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點(diǎn)位置。

旋轉(zhuǎn)零點(diǎn)調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。

發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測(cè)量位置。

旋轉(zhuǎn)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。

旋轉(zhuǎn)“倍加器”開關(guān)鈕“8”至指向10-12，當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針左移超過1時(shí)，再把“倍加器”開關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級(jí)濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由弦欢ù艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機(jī).濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對(duì)設(shè)備更加了解。