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臺州光譜分析儀的用途和特點(diǎn) 江蘇一六儀器

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-01 07:24  







一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀方法,即采用長、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測量的方法和目的來決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀形式的膜厚,通常以um為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。


江蘇一六儀器   X熒光鍍層測厚儀  一六儀器、一liu品質(zhì)!各種涂鍍層、膜層的檢測難題歡迎咨詢聯(lián)系!

1X射線激發(fā)系統(tǒng)垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)空冷式微聚焦型X射線管,Be窗標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等功率:50W(4-50kV,0-1.0mA)-標(biāo)準(zhǔn)75W(4-50kV,0-1.5mA)-任選X射線管功率可編程控制裝備有安全防射線光閘

2濾光片程控交換系統(tǒng)根據(jù)靶材,標(biāo)準(zhǔn)裝備有相應(yīng)的一次X射線濾光片系統(tǒng)二次X射線濾光片:3個(gè)位置程控交換,Co、Ni、Fe、V等多種材質(zhì)、多種厚度的二次濾光片任選位置傳感器保護(hù)裝置,防止樣品碰創(chuàng)探測器窗口

3準(zhǔn)直器程控交換系統(tǒng)多可同時(shí)裝配6種規(guī)格的準(zhǔn)直器,程序交換控制多種規(guī)格尺寸準(zhǔn)直器任選:-圓形,如4、6、8、12、20mil等-矩形,如1x2、2x2、0.5x10、1x10、2x10、4x16等

4測量斑點(diǎn)尺寸在12.7mm聚焦距離時(shí),測量斑點(diǎn)尺寸小至為:0.078x0.055mm(使用0.025x0.05mm準(zhǔn)直器)在12.7mm聚焦距離時(shí),測量斑點(diǎn)尺寸大至為:0.38x0.42mm(使用0.3mm準(zhǔn)直器)

5X射線探測系統(tǒng)封氣正比計(jì)數(shù)器裝備有峰漂移自動(dòng)校正功能的高速信號處理電路

6樣品室CMI900CMI950-樣品室結(jié)構(gòu)開槽式樣品室開閉式樣品室-樣品臺尺寸610mmx610mm300mmx300mm-XY軸程控移動(dòng)范圍標(biāo)準(zhǔn):152.4x177.8mm任選:50.8mmx152.4mm50.4mmx177.8mm101.6x177.8mm177.8x177.8mm610mmx610mm300mmx300mm-Z軸程控移動(dòng)高度43.18mmXYZ程控時(shí),152.4mmXY軸手動(dòng)時(shí),269.2mm-XYZ三軸控制方式多種控制方式任選:XYZ三軸程序控制、XY軸手動(dòng)控制和Z軸程序控制、XYZ三軸手動(dòng)控制


     一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

   江蘇一六儀器  X熒光測厚儀測試要求:

工作要求:

1 環(huán)境溫度要求:15℃-30℃

2 環(huán)境相對濕度:<70%

3 工作電源:交流220±5V

4 周圍不能有強(qiáng)電磁干擾。

5 Max功率 :330W

6 外形尺寸 :550 mm x 480mm x 470 mm (長x寬x高)

7 樣品倉尺寸 :500mm×360 mm ×215mm (長x寬x高)

8 儀器重量 :55kg

9 分析軟件EFP,可同時(shí)分析23層鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析

10 軟件操作人性化封閉軟件,自動(dòng)提示校正和步驟,避免操作錯(cuò)誤

11 X射線裝置:W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管





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