真空鍍膜機一般是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。排氣系統(tǒng)為真空鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵、油擴散泵三大部分組成。裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。氣相沉積設(shè)備廠家

真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。鍍膜設(shè)備已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于光學、電子、玩具、建材、五金、鐘表、汽車、民用裝飾品等行業(yè)。制鍍薄膜尤其廣泛，其制作的各種薄膜被應(yīng)用到各光電系統(tǒng)及光學儀器中，如數(shù)碼相機、數(shù)碼攝像機、望遠鏡、投影機、能量控制、光通訊、顯示技術(shù)、微機電系統(tǒng)、信息工業(yè)、激光的制作、各種濾光片、照明工業(yè)、傳感器、建筑玻璃、汽車工業(yè)、裝飾品、錢幣、眼鏡片等等，鍍膜機器已經(jīng)與人類的生活緊密聯(lián)系。

真空鍍膜設(shè)備膜層灰暗及發(fā)黑：(1)真空度低于0.67Pa。應(yīng)將真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氣的純度低于99.9％。應(yīng)換用純度為99.99％的氣。(3)充氣系統(tǒng)漏氣。2、鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用在生活中我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)，排除漏氣現(xiàn)象。(4)底漆未充分固化。應(yīng)適當延長底漆的固化時間。(5)鍍件放氣量太大。應(yīng)進行干燥和封孔處理。真空鍍膜設(shè)備膜層表面光澤暗淡：(1)底漆固化不良或變質(zhì)。應(yīng)適當延長底漆的固化時間或更換底漆。(2)濺射時間太長。應(yīng)適當縮短。(3)濺射成膜速度太快。應(yīng)適當降低濺射電流或電壓。

真空鍍膜設(shè)備膜層附著力不良：(1)鍍件除油脫脂不干凈。應(yīng)加強鍍前處理。(2)真空室內(nèi)不清潔。應(yīng)清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結(jié)合力的重要措施之一。(3)夾具不清潔。應(yīng)清洗夾具。(4)底涂料選用不當。應(yīng)更換涂料。(5)濺射工藝條件控制不當。開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。應(yīng)改進濺射工藝條件。