用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內(nèi)充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強(qiáng)電場加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

有四個因素影響著清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時間、化學(xué)藥劑、機(jī)械作用以及清洗液溫度，這四個因素之間也相互影響，一個因素的減弱，可以通過增強(qiáng)另外三個因素的作用來彌補(bǔ)，反之亦然。在這四個因素中，清洗時間的zui小化也是追求的目標(biāo)，這樣可以提高清洗的效率．縮短生產(chǎn)時間和交貨周期。清洗主要方法和步驟應(yīng)包括：化學(xué)藥劑噴淋、化學(xué)藥劑浸泡與超聲波清洗、漂洗、烘干。1)化學(xué)藥劑噴淋噴淋對于清洗來說非常有效，它能夠清除掉工件上絕大部分油污及污染物。尤其對有孔工件來說，更加有效，噴淋到工件上的化學(xué)藥劑會流入孔中或化學(xué)藥劑被直接噴進(jìn)孔中對孔內(nèi)壁進(jìn)行沖洗。