在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計約為1μm～100μm，電流密度高達l05A／cm2～107A／cm2。每個弧斑存在極短時間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍真空鍍是電鍍的一種，是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較gao檔產(chǎn)品的功能性鍍層·真空鍍根據(jù)方法不同可分為蒸發(fā)鍍和濺射鍍，離子鍍。蒸發(fā)鍍，其特點是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗?，在玻璃表面形成附著力很強的膜層?次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

同時幾種涂層的硬度均高于HV3000，而且在高溫下可以有效的保持硬度，可以抵御高溫金屬液體對模具造成的應(yīng)力變形。有涂層公司針對此問題研發(fā)了真空PVD鍍膜涂層前處理的新技術(shù)，結(jié)合其它表面技術(shù)和真空PVD鍍膜涂層復(fù)合作用，在改善液體金屬粘模和熱龜裂方面取得了一定的成績。例如HCVAC研發(fā)了一款設(shè)備可以在同時完成壓鑄模具的軟氮化 真空PVD鍍膜涂層，有效的解決了傳統(tǒng)涂層和氮化基體之間結(jié)合力差的問題，進一步提高了壓鑄模具的使用壽命。還有大多數(shù)公司則采用厚涂層的概念通過沉積足夠厚度的涂層來提高模具的使用壽命。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制