將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復(fù)相納米陶瓷中，通過各種方法（如機(jī)械混合法）等將其混合均勻，得到的這種含有納米氮化鈦顆粒的陶瓷材料內(nèi)部便形成導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)。這種材料可作為電子元件應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)中。

（6）在鎂碳磚中添加一定量的TiN，能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。

（7）氮化鈦是一種優(yōu)良的結(jié)構(gòu)材料，可用于噴汽推進(jìn)器以及火箭等。在軸承和密封環(huán)領(lǐng)域也多用氮化鈦合金，凸顯了氮化鈦優(yōu)異的應(yīng)用效果。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。光學(xué)鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的主要特征和優(yōu)點(diǎn)與真空蒸發(fā)涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優(yōu)點(diǎn)：1.薄膜層與工件表面具有很強(qiáng)的結(jié)合力，更耐用，更耐磨。2.成膜速度快，生產(chǎn)效率gao。3.各種各樣的可涂層。PVD技術(shù)的發(fā)展PVD技術(shù)出現(xiàn)于20世紀(jì)70年代后期，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數(shù)低，耐磨性好和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速鋼切削刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了全球制造業(yè)的極大關(guān)注。在開發(fā)高xing能和高可靠性的涂層設(shè)備時(shí)，他們還在硬質(zhì)合金和陶瓷切削刀具中進(jìn)行了更深入的涂層應(yīng)用研究。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

由于聚乙烯醇高阻隔復(fù)合膜具有良好的阻隔性能，且符合環(huán)保要求，所以，該種包裝材料的市場前景十分光明，在食品工業(yè)中有廣闊的市場空間。3、低密度聚乙烯薄膜（LDPE）低密度聚乙烯是在高壓下，乙烯自由基聚合而獲得的合成樹脂，故又稱“高壓聚乙烯”。LPDE為主鏈上帶有長短不同支鏈的支鏈型分子，在主鏈上每1000個(gè)碳原子約帶有15～30個(gè)乙ji、丁基或更長旳支鏈。由于分子鏈中含有較多的長短支鏈，因此產(chǎn)品的密度較低、柔軟、耐低溫性、耐沖擊性較好、具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、一般情況下耐酸（除強(qiáng)氧化性酸外）、耐堿、鹽類的腐蝕作用、具有良好的電絕緣性能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制