根離子的主要缺點

根離子的主要缺點是對工件、鍍槽、陽極的腐蝕性大，槽液維護(hù)要求高。當(dāng)鍍液含有3克/升以上的鐵離子時，就會嚴(yán)重影響鉻層的光澤與鍍液的分散能力，降低工作范圍及電流效率。因此若以根離子完全代替硫酸根離子的鍍鉻電解液，由于上述的缺陷，不能長期很好地生產(chǎn)。而采用根和硫酸根離子配合的鍍鉻電解液，應(yīng)用較廣。 一般的電鍍流程:先處理一下底材表面潔凈，活化，增進(jìn)電鍍效率及表面附著力;電鍍一底材表面 電鍍薄膜;后處理一將 電鍍殘留藥業(yè)去除，干燥，防止鍍層變異，品質(zhì)不良。

電拋光是利用電化學(xué)作用,使金屬零件表面平整而有光澤的工藝

什么是金屬的電拋光?答:電拋光是利用電化學(xué)作用，使金屬零件表面平整而有光澤的工藝。它可提高材料的耐腐蝕性、光反射率，與機械拋光相比較，還有生產(chǎn)率高、操作方便、勞動強度小等優(yōu)點。電拋光時，產(chǎn)生陽極溶解，使陽極附近金屬鹽濃度不斷增加，生成一種粘性薄膜(如圖)這種薄膜導(dǎo)電性不良，并引起陽極極化作用，使陽極電位升高;同時在零件凸凹不平的表面上薄膜的厚度分布不均勻，凸起部分薄膜厚度較小，因而電阻較小造成電力線集中，加速了凸起部分的溶解，使零件表面粗糙的凸起部分尺寸減少較快，從而達(dá)到了整平零件的目的。

如何除去鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)?

如何除去鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)?答:鐵離子的除去方法:調(diào)整鍍鎳液的pH值=4。加入適量的(約1～2毫升/升)，將鍍液攪拌，并加溫至70℃左右，用稀的提高鍍液的pH=6，攪拌2～3小時，再測pH值，如pH因鐵的沉淀而有所降低，再將pH提高至6。靜置過夜，過濾后加入硫酸，調(diào)整pH至正常范圍即可試鍍。銅離子的除去方法:由于銅離子的水解沉淀的pH值與鎳相接近，故用化學(xué)方法除去銅的效果不好，鎳的損耗大。用低電流密度電解的方法去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)，較為經(jīng)濟實用。

電鍍的方法有很多種,電鍍類型因材料、位置和應(yīng)用等條件而異

電鍍的方法有很多種，電鍍類型因材料、位置和應(yīng)用等條件而異。 電鍍主要有"濕法電鍍"和"干法電鍍"。濕法電鍍是一種利用電解和化學(xué)反應(yīng)將物體放入液體中進(jìn)行電鍍的方法，主要包含電鍍（電化學(xué)電鍍）和化學(xué)電鍍。一種將金屬離子浸入含有要電鍍的金屬離子的溶液中的方法，并通過直流電解將金屬離子沉積在金屬表面。電鍍層性能指標(biāo)包括外觀、厚度、孔隙率、耐腐蝕性、硬度和內(nèi)部應(yīng)力。外觀由被電鍍零件的精加工程度和電鍍條件決定。厚度取決于"電流強度 x 電解時間"，硬度和內(nèi)部應(yīng)力因添加劑和電鍍條件而異。