真空蒸發(fā)鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發(fā)鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發(fā)結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發(fā)過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態(tài)，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢?

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢？ 1.真空鍍膜設備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據需要設計涂層體系. 2.真空鍍膜設備節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的. 3.真空鍍膜設備無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當小。

淺談真空鍍膜機的定義、原理及應用范圍

淺談真空鍍膜機的定義、原理及應用范圍 真空鍍膜機就是在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜機是指用物理的方法沉積薄膜。 真空鍍膜機有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 真空鍍膜機技術初現于20世紀30年代，四五十年始出現工業(yè)應用，工業(yè)化大規(guī)模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。