微弧氧化技術(shù)

      在微弧氧化過(guò)程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在，因此陶瓷層的形成過(guò)程非常復(fù)雜，至今還沒(méi)有一個(gè)合理的模型能描述陶瓷層的形成。

      微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化技術(shù)具有操作簡(jiǎn)單和易于實(shí)現(xiàn)膜層功能調(diào)節(jié)的特點(diǎn)，而且工藝不復(fù)雜，不造成環(huán)境污染，是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù)，在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽(yáng)極化膜及電鍍硬鉻。

微弧氧化技術(shù)應(yīng)用前景

      微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn)，如工藝簡(jiǎn)單、不引入有毒物，符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求，對(duì)要處理的零件形狀沒(méi)有特殊要求，特別是對(duì)異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術(shù)在軍事、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時(shí)具備了陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時(shí)具備了陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。

       微弧氧化處理后形成陶瓷層表面顏色只有黑白兩色。嚴(yán)重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經(jīng)過(guò)高溫?zé)Y(jié)，形成耐磨，結(jié)合力好的表面處理。但是普通的低溫釉工藝，燒結(jié)溫度高達(dá)900度，鋁鎂金屬的熔點(diǎn)是600多度，因此嚴(yán)重制約了微弧氧化后處理的發(fā)展，對(duì)終端消費(fèi)品外殼的客戶來(lái)說(shuō)，彩色是必備的選擇。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測(cè)量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對(duì)微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備