真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的巨細(xì)、形狀及擺放辦法選擇著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進(jìn)程不一樣所構(gòu)成的。開始電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細(xì)的小點，即結(jié)晶核，跟著時間添加，單個結(jié)晶數(shù)量添加，并彼此聯(lián)接成片，構(gòu)成鍍層。

東莞電鍍廠介紹，真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面構(gòu)成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：有運用電阻產(chǎn)生的熱能，也有運用電子束的。

  真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進(jìn)程不一樣所造成的。開端電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細(xì)的小點，即結(jié)晶核，跟著時刻添加，單個結(jié)晶數(shù)量添加，并相互銜接成片，構(gòu)成鍍層。

pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。 采用全球先進(jìn)的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國際的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗，為客戶提供適合的涂層加工方案。

真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

PVD鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。