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反滲透膜怎樣清洗?
系統(tǒng)運行一段時間后,反滲透膜元件可能會受到給水中存在的懸浮物或難溶鹽的污染,這些污染中常見的是碳酸鈣、硫酸鈣、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物、硅沉積物、無機或有機混合物、天然有機物質(zhì)、合成有機物、微生物(藻類、霉菌、真菌)等污染。
污染性質(zhì)和污染速度取決于各種因素:如給水水質(zhì)和系統(tǒng)回收率。通常污染是漸進發(fā)展的,如不盡早控制,污染將會在相對較短的時間內(nèi)損壞膜元件。當膜元件確認已被污染,或在長期停機之前,或是作為定期日常維護,都需對膜元件進行清洗。
一、反滲透膜清洗時機1、當反滲透系統(tǒng)或裝置出現(xiàn)以下癥狀時,需要進行化學清洗或物理清洗:
2、在正常給水壓力下,產(chǎn)水量較正常值下降10~15%;
3、為維持正常的產(chǎn)水量,經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加10~15%;
4、產(chǎn)水水質(zhì)降低10~15%;
5、脫鹽率降低3~5%;
6、系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加。
二、清洗步驟1、用HRO-300反滲透膜殺菌劑1-5%對反滲透膜進行殺菌清洗,先循環(huán)1小時,后浸泡1小時,再循環(huán)1小時后用產(chǎn)品水沖凈。
2、用HRO-600反滲透膜堿性清洗劑對反滲透膜進行清洗,與水的配比是1:20,溶液pH值為12-13。先低流量輸入清洗液(溫度控制在30℃左右), 清洗液循環(huán)2小時,后浸泡2小時,(注意:及時觀察清洗液,若清洗液很臟,需排放掉后重新配制)。在浸泡時,若膜污染嚴重可延長浸泡時間(浸泡過夜)。循環(huán)1小時,之后用產(chǎn)品水沖凈,pH值在6左右即可。
3、用HRO-500反滲透膜酸性清洗劑對反滲透膜進行清洗,與水的配比是1:20,溶液pH值為2-3。先低流量輸入清洗液(溫度控制在30℃左右), 清洗液循環(huán)2小時,后浸泡2小時,在浸泡時,若膜污染嚴重可延長浸泡時間。循環(huán)1小時(若清洗液很臟,需排放掉后重新配制),之后用產(chǎn)品水沖凈,pH值在6左右即可。 注意:浸泡后的循環(huán)流量要比清洗時的要大。
設備試機完后,采用過三種方法保護膜。
1、設備試機運行兩天(15~24h),然后采用2%的甲醛溶液保養(yǎng);
2、運行2~6h后,用1%的NaHSO3的水溶液進行保養(yǎng)(應排盡設備管路中的空氣,保證設備不漏,關閉所有的進出口閥)。
兩種方法均可得到滿意的效果。種方法成本高些,在閑置時間長時使用,第二種方法在閑置時間較短時使用。
3、膜的透水量隨運行時間增長而下降,膜的污染問題必然產(chǎn)生,因此必須采取有效的方法進行清洗,使膜面或膜孔內(nèi)的污染物去除,達到透水量的恢復,延長膜的使用壽命。
反滲透設備費用新工藝之二:預處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)。
反滲透設備費用新工藝之三:預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)。
因為目前的發(fā)展狀況,純凈水設備的應用領域越來越廣泛了。那么他究竟用在哪些領域呢?
微電子行業(yè):電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn);
行業(yè):無菌水生產(chǎn)、生產(chǎn)、藥劑生產(chǎn)純化水、血液透析用水;
化學化工:超純化學試劑生產(chǎn)化工新材料生產(chǎn);
其它:冶煉、磁性材料生產(chǎn)、電子級無塵布生產(chǎn)、光學材料生產(chǎn)等。