佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 ：

偏壓：偏壓施加于工件上，在輝光清洗時(shí)工件（陰極）與爐體之間產(chǎn)生輝光放電，部分氣被電子離化產(chǎn)生離子，離子（帶正電）在負(fù)偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面，偏壓越大，對工件的轟擊凈化越干凈，但同時(shí)工件本身的溫升也越大，特別是尖角位棱角位置；在離子轟擊中用于加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，去除表面氧化層和吸附物，達(dá)到提高膜層結(jié)合力的作用。濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子。

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鍍膜時(shí)間：膜層厚度隨鍍膜時(shí)間的增加而增加,但不是線形增加,當(dāng)厚度達(dá)到一定的時(shí)候,增加速度會(huì)變慢后基本停止,而且鍍膜時(shí)間越長膜層應(yīng)力越大.外觀越差。

送氣方式和氣體流量：采用從少到多逐步增加氣體流量的方式加氣使膜層從金屬逐漸過渡到化合物是很好的一種加氣方式，如做黑膜這樣還可以延緩靶，使顏色做得更深。

PLD缺點(diǎn)：1、在鍍膜過程中，薄膜會(huì)被沉積在薄膜上的等離子本管中產(chǎn)生的微粒、氣態(tài)原子和分子降低質(zhì)量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制摻雜、生長平滑的多層膜等方面PLD生長部比較困難，因此進(jìn)一步提高薄膜的質(zhì)量會(huì)比較困難.

真空鍍膜：一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。