在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計約為1μm～100μm，電流密度高達l05A／cm2～107A／cm2。每個弧斑存在極短時間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設計的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜一種通過物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊要鍍覆的物體表面。這項技術*首先用于生產(chǎn)光學透鏡，例如船用望遠鏡透鏡。后來擴展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾涂層和材料表面改性。例如，表殼鍍有仿金，然后對機床進行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標表面擊中ya（Ar）離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質(zhì)和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜，但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現(xiàn)象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點金屬、合金、半導體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

壓鑄模具涂層的處理工藝。3.在鎖具行業(yè)應用PVD鍍膜技術在鎖具行業(yè)基材上做表面改性裝飾與耐用效果。水電鍍無法做到的，真空技術幾乎都可以實現(xiàn)各種顏色效果，環(huán)保工藝。而且鎖具加工真空鍍膜技術加工在整體顯得高gui大氣，讓人類生活多姿多彩。4.在手機外殼/中框及配件手機外殼與及中框、攝像頭保護圈，手機ka槽，音量按鍵，電源開關鍵等裝飾件在不銹鋼基材上采用真空PVD鍍膜技術，加強使用耐磨硬度和顏色多種選擇。5.不銹鋼餐具在真空PVD鍍膜技術效果不銹鋼餐具選用真空PVD鍍膜技術無形增加產(chǎn)品很多買點和利潤空間，餐具的選擇品種也隨之而多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制