平面研磨機(jī)和單面研磨機(jī)的概念用途參數(shù)淺析

單面研磨機(jī)是主要作為石英晶體片、硅、鍺片、玻璃、陶瓷片、活塞環(huán)、閥板、閥片、軸承、鉬片、藍(lán)寶石、等各種片狀金屬、別的圓盤類零件的研磨，非金屬零件的單面研磨。是一種平面加工設(shè)備，有著高強(qiáng)度機(jī)械結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定的精度。

平面研磨機(jī)廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭號(hào)各種材料的單面研磨、拋光。同時(shí)，精密和超精密加工技術(shù)的發(fā)展也促進(jìn)了機(jī)械、模具、液壓、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、傳感器和測量技術(shù)及金屬加工工業(yè)的發(fā)展。是一種精細(xì)研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平坦的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)針滾動(dòng)，皮帶輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方法對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)動(dòng)磨擦，來達(dá)到研磨拋光的目的。

精密雙面研磨機(jī)

廣泛用于藍(lán)寶石鐘表玻璃、手機(jī)玻璃、玻璃基片、MP3面板、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、石英晶片、硅片、諸片、陶瓷基板、活塞環(huán)、閥片、鋁鐵硼、鉬片、鐵氧體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的雙面研磨、拋光．

工作原理：

本系列研磨機(jī)為精密磨削設(shè)備，上、下研磨盤作相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動(dòng)。磨削阻力小不損傷工件，而且兩面均勻磨削生產(chǎn)。

特    點(diǎn)：

1.系列研磨機(jī)運(yùn)行采用四臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可以給上研磨盤、下研磨盤、齒圈、太陽輪單獨(dú)進(jìn)行調(diào)速，使研磨達(dá)到理想的轉(zhuǎn)速比，其太陽輪相對(duì)與其它三個(gè)轉(zhuǎn)速的速比可作無級(jí)調(diào)速,使游輪可實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足了不同研磨及修盤工藝的需求。

2.系列研磨機(jī)為下研磨盤升降方式、下研磨盤的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿足改變游輪嚙合高低位置的需要；

3.系列研磨機(jī)采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過程；

4.系列研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，變頻調(diào)速，觸摸屏操作面板，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接在觸摸屏上輸入。

5.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

雙面研磨機(jī)加工注意事項(xiàng)

雙面研磨機(jī)在加工時(shí)，怎樣才能使工件表面呈現(xiàn)鏡面，在研磨加工工件的時(shí)候，其工件的表面，看上去很光滑，但其表面微觀輪廓卻是凸凹不平的。雙盤研磨機(jī)主要用于加工兩平行面、一個(gè)平面(需增加壓緊工件的附件)、外圓柱面和球面（采用帶V形槽的研磨盤）等。人們把工件表面的這種微觀不平的程度稱作是表面光潔度。表面光潔度共分為14個(gè)級(jí)別，代號(hào)也就是▽1~▽14，而其中的9~14級(jí)按級(jí)分又可分為a、b、c三個(gè)等級(jí)。工件的表面光潔度是由所選擇的加工方法決定的，而雙面研磨機(jī)的研磨主要是為獲得較高表面光潔度的理想的工藝方法之一。

僅僅就是從研磨來確認(rèn)，▽14級(jí)表面光潔度的獲得不只是終的精研磨一道工序所能研磨加工出來的，而是需要經(jīng)過粗研磨、半精研磨等多道的研磨工序的預(yù)加工才可以獲得。是一種精細(xì)研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平坦的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)針滾動(dòng)，皮帶輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方法對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)動(dòng)磨擦，來達(dá)到研磨拋光的目的。實(shí)踐表明，工件的表面光潔度要求越高的話，精研磨之前的預(yù)研磨工序也就越多，而工件表面光潔度的提高是一個(gè)循序漸進(jìn)的過程。