高純/特種氣體的概念

半導(dǎo)體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類：

1.普通氣體：也叫大宗氣體，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。

2.特種氣體：主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。

半導(dǎo)體制造用氣體按照使用時(shí)的危險(xiǎn)性分類：

1.可燃、助燃、易然易暴氣體：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

2.有毒氣體：AsH3、PH3 、B2H6等

3.助燃?xì)怏w：O2 、N2O、F2 、HF等

4.窒息性氣體：N2 、He 、CO2、Ar等

5.腐蝕性氣體：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等

高純氣體管道配管

所有高純度、高潔凈的氣體均需通過管路輸送到設(shè)備用點(diǎn)(POU)，為了達(dá)到工藝對(duì)氣體的質(zhì)量要求，在氣體出口指標(biāo)一定的情況下，則更需重視配管系統(tǒng)的材料選用和施工質(zhì)量。除取決于制氣或凈化設(shè)備的精度外，在很大程度上受到管路系統(tǒng)諸多因素的影響，因此，管材的選取應(yīng)恪守相關(guān)行業(yè)原則，并在圖紙中注明管道材質(zhì)。

管路的材質(zhì)則依使用的需求進(jìn)行選擇，若為制程用的反應(yīng)氣體則選擇高等級(jí)的316L EP管，經(jīng)電解拋光(Electro-Polish)處理，耐腐蝕，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to valleyheight)約為0.3μm以下，其值遠(yuǎn)低于經(jīng)過光輝燒結(jié)(Bright Anneal)處理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微渦流，而將污染粒子帶出。316L BA管則常使用于和芯片接觸但不參與制程反應(yīng)的氣體，如GN2、CDA。管內(nèi)表面粗糙度是衡量管材質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)。粗糙度越低，其顆粒攜帶可能性大大降低。另一種未經(jīng)特殊處理的AP管(Annealing & Picking)，則用于不做為供氣管路的雙套外管。

氮?dú)庥心男┨攸c(diǎn)？

在化工行業(yè)中，氮?dú)?/strong>是一種經(jīng)常使用的氣體，那么它都有哪些特點(diǎn)呢？下面就由強(qiáng)源氣體為大家詳細(xì)解答。