PVD鍍膜層的厚度

　　聚涂層的厚度為微米級(jí)，較薄，一般為0.1μm~5μm，其中裝飾涂層的厚度一般為0.1μm~1μm，可以在幾乎不影響工件原有尺寸的情況下提高工件表面的各種物理化學(xué)性能，保持工件尺寸基本不變，鍍后無需再加工。

　　PVD中文意味著物理氣相沉積，是指在真空條件下，用物理方法將材料沉積在鍍膜工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為裝飾鍍膜和工具鍍膜.

伴隨著經(jīng)濟(jì)發(fā)展的發(fā)展趨勢和生活水平的提高，我們喜愛收看珍珠貝、手表帶、服飾、燈光效果、眼鏡結(jié)構(gòu)、室內(nèi)室外裝飾規(guī)劃、五金袋、手機(jī)套、手機(jī)屏、衛(wèi)浴潔具、食物包裝材料等裝飾物滿是多姿多彩。真空鍍膜技術(shù)是真空使用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地使用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、外表科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。

PVD鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。PVD鍍膜加工過程的均勻性分析：化學(xué)組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。