鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)

1. 光學(xué)系統(tǒng)：中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學(xué)分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護(hù)成本

8. 計算機(jī)控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復(fù)性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

 

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會組織在北京對鋼研納克檢測技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國分析測試協(xié)會張渝英、中國分析測試協(xié)會汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測技術(shù)有限公司賈云?？偨?jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項目負(fù)責(zé)人及項目骨干出席本次鑒定會。

本次鑒定會由鑒定組組長張新榮主持，項目組向組成員詳細(xì)匯報了成果情況，組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗報告和用戶報告等項目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點火，電路具有全自動保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等點。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。