經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻：一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定，正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2，具體以曝光尺為準(zhǔn)；線路曝光尺5 --8格，油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光時(shí)必須抽真空充分，以免曝光不良，一般要求650mmHg以上真空度；

顯影時(shí)，顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi)，壓力1.5--2.0kg/cm2。

曝光過度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈；曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過度。

可以這樣認(rèn)為：光圈（值）大小其實(shí)就是那個(gè)小圓窗戶開多大，快門（速度）就是窗戶打開多久。假設(shè)窗戶只打開1/4，時(shí)間為4秒鐘可以正確曝光的話，很顯然，窗戶打開一半，時(shí)間2秒鐘也能讓底片正確曝光，因?yàn)?/4*4=1/2*2=1，進(jìn)光量都是一樣多。同樣的，如果窗戶全開，曝光時(shí)間就只需要1秒了。 假若一個(gè)鏡頭光圈全開為F4，用攝影行話來說，光圈F4快門速度1秒為正確曝光值，那F5.6和2秒以及F8和4秒也同樣能得到準(zhǔn)確曝光的圖片。 重要結(jié)論：一張正確曝光的圖片可以有N種不同的光圈和快門速度組合。

在曝光機(jī)橡皮膜接觸菲林底片一側(cè)粘上一塊絨布，絨毛朝菲林底片，絨布的背面繞上幾圈銅絲，銅絲與橡皮膜的接地線相連，防止絨布產(chǎn)生靜電。絨布和橡皮膜之間不好粘貼，要選用合適的膠水，但不宜使用含有有機(jī)溶液的膠水，否則容易損壞橡皮膜。此法生產(chǎn)效率較高，但同樣不能杜絕偏移。

以上幾種方法中，實(shí)用的是前面一種。雖然效率低些，但相對(duì)于因偏移造成返工甚至使PCB報(bào)廢而言還是值得采用的。