大家在使用鍍鎳砂時(shí)一個(gè)主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩(wěn)定，由此導(dǎo)致上砂質(zhì)量的波動(dòng)。不穩(wěn)定的一個(gè)主要原因是砂的退鍍，那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢？可能這篇文章能給你一些答案。

鍍鈦砂和鍍鎢砂，都屬于高耐腐蝕砂，鍍層穩(wěn)定。比如，日本使用鍍鈦砂，耐久性2-3個(gè)月，有利于產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定和產(chǎn)線的自動(dòng)化。

鍍W砂，W與金剛石界面形成W2C化學(xué)鍵合，而且W-Ni相容性優(yōu)異，有利于砂與基線鍍層的結(jié)合，所以鍍W砂也是很有潛力的線鋸原材料。

直流二級(jí)離子鍍，是穩(wěn)定的輝光放電；空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產(chǎn)生電子的原因均可簡(jiǎn)單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導(dǎo)致核外電子的熱發(fā)射；首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負(fù)電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì)被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類似。陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同，它采用的是冷弧光放電。在眾多離子鍍膜技術(shù)中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者，其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。

其中熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍，利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料，利用鉭燈絲給工件加熱、除氣，利用電子槍增強(qiáng)離化率，不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層，而且其結(jié)合力、耐磨性均有不俗表現(xiàn)，甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設(shè)備都只適合于 TiN涂層，或純金屬薄膜。對(duì)于多元涂層或復(fù)合涂層，則力不從心，難以適應(yīng)高硬度材料高速切 削以及模具應(yīng)用多樣性的要求。5、表面若被漂白劑或者酸附著，立即用水沖洗，再用或中性碳酸蘇打水溶液浸洗，用中性洗滌劑或溫水洗滌。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強(qiáng)的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強(qiáng)應(yīng)盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(zhǎng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結(jié)構(gòu)疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結(jié)構(gòu)均勻致密,機(jī)械強(qiáng)度高,膜層內(nèi)應(yīng)力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結(jié)晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.