真空鍍膜加工鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過長(zhǎng)是什么原因？

真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，車燈鍍膜機(jī)達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。獲得價(jià)廉物美的塑料件表面裝飾的理想設(shè)備，任意底色的塑料經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高產(chǎn)品檔次、外觀更顯華貴作用。廣泛應(yīng)用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PC和PVC）、尼龍、陶瓷、樹脂、玻璃等材料的玩具、飾物、工藝品、手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、燈飾配件、化妝包裝等行業(yè)。

真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。 光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。

計(jì)算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對(duì)應(yīng)的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對(duì)照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

PVD鍍膜金屬真空鍍膜廠

真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會(huì)形成光的干擾的缺點(diǎn)，它的表面如錦緞一樣細(xì)膩柔和，很受市場(chǎng)的青睞，但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

PVD鍍膜技術(shù)的原理?

?PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。