常規(guī)沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統特點及優(yōu)勢：

可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供專業(yè)的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續(xù), 交貨期短，性價比高；

沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有先進的技術，我們都以質量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務。如果您對脈沖激光沉積感興趣，歡迎點擊左右兩側的在線客服，或撥打咨詢電話。

脈沖激光沉積發(fā)展前景

由脈沖激光沉積技術的原理、特點可知，它是一種極具發(fā)展?jié)摿Φ谋∧ぶ苽浼夹g。隨著輔助設備和工藝的進一步優(yōu)化，將在半導體薄膜、超晶格、超導、生物涂層等功能薄膜的制備方面發(fā)揮重要的作用；自動化裝置：控制樣品溫度和旋轉靶臺的位置控制靶臺旋轉氣體控制速率及厚度計算（利用QCM輸出）激光束掃描（可選）激光束屏蔽控制自動泵抽和充氣差分泵抽結構RHEED分析（可選）裝載室壓強監(jiān)控（可選）。并能加快薄膜生長機理的研究和提高薄膜的應用水平，加速材料科學和凝聚態(tài)物理學的研究進程。同時也為新型薄膜的制備提供了一種行之有效的方法。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年脈沖激光沉積行業(yè)經驗，專注脈沖激光沉積研發(fā)定制與生產，先進的脈沖激光沉積生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話?。?！

脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優(yōu)點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成

脈沖激光沉積的原理

脈沖激光沉積原理：在真空環(huán)境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。

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