出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流

但其不足之處是:出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流密度區(qū)易發(fā)霧。只適用于要求不高的簡(jiǎn)單工件,復(fù)雜件則難達(dá)要求。出光速度慢帶來生產(chǎn)效率低、鎳耗較大等不利情況。第四代鍍鎳初級(jí)光亮劑一般由3～5種中間體復(fù)配而成,其中有些組分完全擺脫了炔屬體系。即使采用炔屬類也不大用,而是的加成物。直接用代替,光亮整平性好得多,但鍍層脆性很大,故不宜直接加入。第四代鍍鎳初級(jí)光亮劑為柔軟劑,實(shí)際上也是由幾種中間體復(fù)配而成,產(chǎn)品差異很大。

微裂紋鉻 20世紀(jì)60年代中期，開發(fā)了電鍍高應(yīng)力鎳產(chǎn)生微裂紋鉻新工藝。其方法是在光亮鎳上再電鍍一薄層(約 1微米)高應(yīng)力鎳，具有很高內(nèi)應(yīng)力的鎳層，極易形成微裂紋，隨后鍍鉻，鉻層就形成微裂紋鉻。鉻層厚度為0. 25μm國(guó)外稱為PNS (Pots NickelStrike}工藝。鍍耐磨鉻是種功能性電鍍， 主要目的是利用鉻的特性以提高機(jī)械零件的硬度、耐磨、耐濕 和耐蝕等物化性能。

電鍍鉻鍍液應(yīng)用廣的鍍鉻液是以硫酸根作為催化劑的鍍液，鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便。鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。除這種鍍液外還有一些其它的鍍液，比如添加了加、氧化鎂、硫酸鍶、稀土金屬等的特殊鍍液，還有三價(jià)鉻等。

鍍鋅層經(jīng)鉻酸鈍化后形成白色、彩色、軍綠色等

鍍鋅后的顏色是鋅的顏色為銀白色，鍍鋅鈍化后的顏色可形成白色、彩色、軍綠色等。鋅易溶于酸，也能溶于堿，故稱它為金屬。鋅在干燥的空氣中幾乎不發(fā)生變化。鋅鍍層較厚，結(jié)晶細(xì)致、均勻且無孔隙，抗腐蝕性良好；電鍍所得鋅層較純，在酸、堿等霧氣中腐蝕較慢，能有效保護(hù)緊固件基體，鍍鋅層經(jīng)鉻酸鈍化后形成白色、彩色、軍綠色等，美觀大方，具有一定的裝飾性，由于鍍鋅層具有良好的延展性，因此可進(jìn)行冷沖、軋制、折彎等各種成型而不損壞鍍層。