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NR7 6000PY光刻膠公司在線咨詢(xún)

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-02 07:45  






正性光刻膠

正性光刻膠

正性光刻膠也稱(chēng)為正膠。正性光刻膠樹(shù)脂是一種叫做線性酚醛樹(shù)脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性,當(dāng)沒(méi)有溶解存在時(shí),線性酚醛樹(shù)脂會(huì)溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見(jiàn)的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一種強(qiáng)烈的溶解,降低樹(shù)脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻膠中化學(xué)分解,成為溶解度增強(qiáng)劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應(yīng)會(huì)在DNQ中產(chǎn)生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。該技術(shù)的引入,可明顯減小光刻膠表面對(duì)入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。正性光刻膠具有很好的對(duì)比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。


彩色薄膜少了光刻膠,產(chǎn)生不了絢麗的畫(huà)面

顯示器是人與機(jī)器溝通的重要界面。光刻膠是整個(gè)光刻工藝的重要部分,也是國(guó)際上技術(shù)門(mén)檻較高的微電子化學(xué)品之一,主要應(yīng)用在集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)。光刻技術(shù)決定了集成電路的集成度,技術(shù)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)和實(shí)現(xiàn)。

章宇軒介紹,我們?cè)谌粘9ぷ魃钪?,之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫(huà)面,就是離不開(kāi)屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16%的一層彩色薄膜。然而,彩色薄膜顏色的產(chǎn)生,必須由光刻膠來(lái)完成。

LCD是非主動(dòng)發(fā)光器件,其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源,通過(guò)驅(qū)動(dòng)器與控制器形成灰階顯示,再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍(lán)三基色,依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫(huà)面。

其中,根據(jù)顏色的不同,可以將光刻膠分為黑色、紅色、綠色、藍(lán)色四種。彩色濾光片的制作就是在玻璃基板上應(yīng)用黑色光刻膠制作黑色矩陣,再應(yīng)用紅、綠、藍(lán)光刻膠制作三原色像素。


光刻膠國(guó)內(nèi)的研發(fā)起步較晚

光刻膠的研發(fā),關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠主要成分有高分子樹(shù)脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑,開(kāi)發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多,需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計(jì)和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、終使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面進(jìn)行調(diào)整。因此,要自主研發(fā)生產(chǎn),技術(shù)難度非常之高。曝光時(shí)間,由光源強(qiáng)度,光刻膠種類(lèi),厚度等決定,另外,為降低駐波效應(yīng)影響,可在曝光后需進(jìn)行烘焙,稱(chēng)為光后烘焙(PEB)。

在光刻膠研發(fā)上,我國(guó)起步晚,2000年后才開(kāi)始重視。近幾年,雖說(shuō)有了快速發(fā)展,但整體還處于起步階段。事實(shí)上,工藝技術(shù)水平與國(guó)外企業(yè)有著很大的差距,尤其是材料及設(shè)備都仍依賴(lài)進(jìn)口。


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6,堅(jiān)膜

堅(jiān)膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象,能使膠膜附著能力增強(qiáng),康腐蝕能力提高。堅(jiān)膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140 10-30min,7,顯影檢驗(yàn),光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對(duì)準(zhǔn)不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡,針KONG、小島。光刻工藝主要性一光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復(fù)雜等特征,還需要相應(yīng)光刻機(jī)與之配對(duì)調(diào)試。

8刻蝕

就是將涂膠前所墊基的薄膜中沒(méi)有被光刻膠覆蓋和保護(hù)的那部分進(jìn)行腐蝕掉,達(dá)到將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到下層材料的目的。濕法刻蝕,SIO2,AL, Poly-Si 等薄膜,干法腐蝕。


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