優(yōu)點(diǎn)化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光，非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光?；瘜W(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件

缺點(diǎn)1、化學(xué)拋光的質(zhì)量不如電解拋光。2、化學(xué)拋光所用溶液的調(diào)整和再生比較困難，在應(yīng)用上受到限制。3、化學(xué)拋光操作過(guò)程中，散發(fā)出大量黃棕色有害氣體，對(duì)環(huán)境污染非常嚴(yán)重。4、拋光溶液的使用壽命短，溶液濃度的調(diào)節(jié)和再生比較困難

拋光三環(huán)節(jié)研磨、拋光、還原各環(huán)節(jié)具體含義及質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：1、 研磨：通過(guò)表面預(yù)處理清除漆面上的污物，消除嚴(yán)重氧化、細(xì)微劃痕及表面缺陷，工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙。隨著人工成本的提高，水磨砂紙研磨效率不高，使用后砂紙痕較重的問(wèn)題開(kāi)始凸顯，一些主流站開(kāi)始采用3M 金字塔砂紙，P1500和P3000砂紙，使用干磨機(jī)拋光半濕磨的方式進(jìn)行研磨，無(wú)砂紙痕的殘留，機(jī)械化操作，可極大的提高拋光效率。具體步驟如下：a, 缺陷去除。漆面噴灑少量水，使用P1500金字塔砂紙配合干磨機(jī)整體上下左右各一遍，漆面呈亞光狀態(tài)；打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面的白沫，觀察漆面，找出突顯的缺陷，再在砂碟上噴灑少量水，去除缺陷。b, 漆面過(guò)細(xì)。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過(guò)細(xì)打磨過(guò)的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水，以較快的移遮蔽保護(hù)動(dòng)速度，按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面水和白沫。

1. 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

使用方法：1． 使用 工藝處理濃度: 建議控制條件 理想值Risr- B709 原液使用 原液使用處理溫度 &nbs p; 65-75℃ 70℃處理方法 &nbs p; 攪拌浸泡處理時(shí)間 &nbs p; 5-10分鐘 5min注：使用前 采用恒溫加熱35℃和均勻的攪拌，建議采用石英加熱器加熱。2． 處理流程工件脫脂 水洗 侵入化拋劑 清洗（2-3次） 烘干或后處理工序。建 ?。?、清槽 建議使用鋼體結(jié)構(gòu)內(nèi)襯PP或PE材料，首先使用 堿液清洗后再使用鹽酸清洗，再用清水清洗2-3遍，后使用純水清洗一遍；2、配制 原液使用。廢水處理：廢水處理按常規(guī)化學(xué)品處理，同時(shí)應(yīng)遵循 有關(guān)的化學(xué)應(yīng)用規(guī)則，注意事項(xiàng)：在接觸化學(xué)品時(shí)，必須閱讀、理解和遵循MSDS上 的急救和處理建議。貯存時(shí)注意：貯存處應(yīng)陰涼、干燥、避光。