電化學(xué)拋光原理電化學(xué)拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達(dá)到鏡面效果。

工藝流程化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序工作環(huán)境：傳統(tǒng)拋光工藝工作環(huán)境惡劣，拋光過程中產(chǎn)生沙粒，鐵屑，粉塵等，嚴(yán)重污染環(huán)境；.加工效率：人工拋光；豪克能工藝屬于以車代磨，線速度可達(dá)50-80 m/min,進(jìn)給量可達(dá)0.2-0.5mm/r,相當(dāng)于半精車的效率。鋪料消耗：拋光需要消耗拋光輪、磨料、砂帶等輔料；適應(yīng)性：拋光可以加工平面等簡(jiǎn)單的型面，對(duì)于曲面無法加工。如果加工R弧，曲面等復(fù)雜型面，可采用豪克能拋光工藝。

拋光三環(huán)節(jié)研磨、拋光、還原各環(huán)節(jié)具體含義及質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：1、 研磨：通過表面預(yù)處理清除漆面上的污物，消除嚴(yán)重氧化、細(xì)微劃痕及表面缺陷，工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙。隨著人工成本的提高，水磨砂紙研磨效率不高，使用后砂紙痕較重的問題開始凸顯，一些主流站開始采用3M 金字塔砂紙，P1500和P3000砂紙，使用干磨機(jī)拋光半濕磨的方式進(jìn)行研磨，無砂紙痕的殘留，機(jī)械化操作，可極大的提高拋光效率。具體步驟如下：a, 缺陷去除。漆面噴灑少量水，使用P1500金字塔砂紙配合干磨機(jī)整體上下左右各一遍，漆面呈亞光狀態(tài)；打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面的白沫，觀察漆面，找出突顯的缺陷，再在砂碟上噴灑少量水，去除缺陷。b, 漆面過細(xì)。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過細(xì)打磨過的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水，以較快的移遮蔽保護(hù)動(dòng)速度，按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面水和白沫。

1. 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

是以硫酸為載體,在適宜的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行化學(xué)拋光,通常情況下、(或),拋光過程即完成化學(xué)拋光方法,將欲拋光的不銹鋼在此溶液中浸泡,當(dāng)溶液呈現(xiàn)綠色時(shí)、代替相應(yīng)的酸,先將這些鹽類溶于溶有淀粉的水溶液中,然后再將此欲拋光的材料浸入硫酸溶液中,使其表面附著一層溶有上述鹽類的淀粉層,用氯化鈉化學(xué)拋光，一般使用或磷酸等氧化劑溶液，在一定的條件下，使工件表面氧化，此氧化層又能逐漸溶人溶液，表面微凸起處氧化較快而較多,而微凹處則被氧化慢而少。同樣凸起處的氧化層又比四處更多、更快地?cái)U(kuò)散，溶解于酸型溶液中,因此使加工表面逐漸被整平，達(dá)到改善工件表面粗糙度或使表面平滑化和光澤化的目的。化學(xué)拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內(nèi)表面和形狀復(fù)雜的工件，不需要外加電源、設(shè)備，操作簡(jiǎn)單、成本低。其缺點(diǎn)是化學(xué)拋光效果比電解拋光效果差，拋光過程中會(huì)產(chǎn)生氮氧化合物等環(huán)境污染物，而且拋光液用后處理較麻煩