顯影：顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過程。通過堿液作用，將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。英文中的蝕刻一詞“Etching”源自于古日耳曼語“吃”，是指利用帶有腐蝕性的酸將圖案“啃”入堅(jiān)硬的金屬表面。蝕刻被廣泛運(yùn)用于輕奢品，特別是像這樣本身就是堅(jiān)久耐用的物品。該技術(shù)能在金屬表面創(chuàng)造出具有高度裝飾性的淺浮雕，而又不影響其結(jié)構(gòu)的完整性。

曝光，是指被攝影物體發(fā)出或反射du的光線，通過照相機(jī)鏡頭投射zhi到感光片上，使之發(fā)生化學(xué)變化，產(chǎn)生顯dao影的過程。在攝影中，曝光就是光圈和快門的組合。

總結(jié)以上幾個(gè)名詞解釋，有三個(gè)因素能影響一張圖片是否正確曝光：光圈，快門速度，ISO（感光度）。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。如果進(jìn)光量不夠，我們可以開大光圈或者降低快門速度，還是不夠的話就提高感光度(ISO)。大光圈的缺點(diǎn)是解像度不如中等光圈，快門速度降低則圖片可能會(huì)糊，提高ISO后圖片質(zhì)量也會(huì)下降 。沒有的方案，如何取舍要靈活決定。

干膜顯影性不良，超期使用。上述已講過光致抗蝕干膜，其結(jié)構(gòu)有三部分構(gòu)成：聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜。在紫外光照射下，干膜與銅箔板表面之間產(chǎn)生良好的粘結(jié)力，起到抗電鍍和抗蝕刻的作用。圖形電鍍過程中，引起的滲鍍的原因分析如下：圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點(diǎn)bai，也是技術(shù)難點(diǎn)，其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。