離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的?

離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的？ 1、設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規(guī)定。 2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。 3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱 4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。 5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。 6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。 7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。 8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發(fā)鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發(fā)結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發(fā)過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態(tài)，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點. 直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

離子鍍膜設備的工作原理及操作方法

離子鍍膜設備的工作原理及操作方法 目前商業(yè)上已有很精制的設備安裝在顯微鏡下的載物臺的位置上。濺射鍍膜時，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉到面對電子槍（陰極）的位置，調(diào)節(jié)濺射室中的氣壓，輝光放電，陰極濺射，反應濺射沉積。一定時間后，中斷濺射，把濺射沉積的試樣表面，轉回到面對物鏡的位置，觀察試樣表面的顏色，來評定沉積膜的厚度，當要求的顏色得到時，鍍膜操作停止。