ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平，它們以光電倍增管為檢測器，技術上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺，單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準，它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器；中階梯光柵結合棱鏡(或平面光柵)構成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析?？梢钥焖?、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

Plasma 2000 技術特點

1.  優(yōu)異的光學系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量子化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

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Plasma 2000型ICP-OES測定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅

鋼研納克

隨著城市污水處理量的增加，處理過程中產生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機物，還含有很多難以降解的金屬元素，如果處理不當會造成更為嚴重的二次污染。因此對污泥中金屬元素含量的監(jiān)測尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法，使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測量方法，加標回收率在93.4% - 106.6%之間，方法可靠，適用于污泥中金屬元素的測定。

實驗過程

1

儀器特點

觀測方式：徑向觀測

分光系統(tǒng)：中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，全譜瞬態(tài)直讀

檢測器：大面積背照式CCD芯片，高紫外檢出效率，寬動態(tài)范圍

光源：固態(tài)射頻發(fā)生器，小體積

2

儀器參數(shù)

表1 Plasma 2000工作條件

3

實驗方法

稱取一定量污泥樣品，加入一定比例的混酸，使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出，定容至100mL容量瓶待測。

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分析譜線

表2 Plasma 2000譜線選擇（nm）

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標準曲線

Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標準溶液（國家鋼鐵材料測試中心，1000 μg/mL）配制曲線濃度如表3 ，線性相關系數(shù)大于0.999。

表3 標準曲線濃度（μg/mL）

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測定結果

在實際樣品中加入被測元素，其加標回收率93.4%-106.6%為之間，滿足定量要求。

表4 實際樣品分析結果（%）

結論

本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測定污水處理廠中污泥中重金屬元素，加標回收率介于93.4%-106.6%之間，適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測。