磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

什么是DLC鍍膜設(shè)備

DLC鍍膜設(shè)備是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。DLC鍍膜設(shè)備作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

它應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。并且他是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細(xì)密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開DLC真空鍍膜設(shè)備。

連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì)，提供全套設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì)，提供全套鍍膜設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

優(yōu)勢：設(shè)備模組化設(shè)計(jì)，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對(duì)卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時(shí)硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來的碳會(huì)與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題，不會(huì)產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。