微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實(shí)際上并不算復(fù)雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質(zhì)是環(huán)保無毒的，對(duì)鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級(jí)鋁材，還是難以陽(yáng)極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進(jìn)行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結(jié)晶層。一平方厘米電弧可以分解出來10億個(gè)以上的小弧斑，再把弧的開斷時(shí)間控制在百萬(wàn)分之一秒內(nèi)，這個(gè)小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶噴射現(xiàn)象。微弧氧化在處理過程中會(huì)自動(dòng)對(duì)制品表面進(jìn)行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復(fù)得平整光滑，在一定程度上也節(jié)省了后期成本。

       微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結(jié)合，使鋁合金（輕質(zhì)但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質(zhì)硬且耐蝕，進(jìn)而達(dá)到了延長(zhǎng)材料使用壽命的目的。將微弧氧化陶瓷化轉(zhuǎn)化技術(shù)與為滿足不同服役條件而選定的后續(xù)涂裝技術(shù)相結(jié)合而形成復(fù)合涂層的一種短流程無污染排放的環(huán)保型表面處理技術(shù)，優(yōu)異的表面保護(hù)效果滿足了鎂合金制品于各種服役條件的表面性能要求。同時(shí)，微弧電子學(xué)又是一種新型‘塑形’技術(shù)，通過負(fù)電性等離子體對(duì)材料進(jìn)行納米尺度選取剝離，實(shí)現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

     微弧氧化的起源

       微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的新技術(shù)。2002年微弧氧化設(shè)備獲得國(guó)家重點(diǎn)新產(chǎn)品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發(fā)明專利。美國(guó)五十年代在某些兵工廠開始研究陽(yáng)極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國(guó)際研究熱點(diǎn)并開始應(yīng)用,九十年代初國(guó)內(nèi)開始起步。微弧氧化在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。（壓鑄件氧化，鋁鎂合金硬質(zhì)氧化，硬質(zhì)氧化）微弧氧化技術(shù)原理、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知，陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。微弧氧化技術(shù)的突特點(diǎn)微弧氧化陶瓷技術(shù)是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的高新技術(shù)。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源