光刻膠趨勢(shì)

半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域全球市場(chǎng)規(guī)模趨于穩(wěn)定， 2017年全球市場(chǎng)約13.5億美元；國(guó)內(nèi)市場(chǎng)約20.2億元，近5年復(fù)合增速達(dá)12%。受全球半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇和國(guó)內(nèi)承接產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，預(yù)計(jì)全球光刻膠市場(chǎng)將保持穩(wěn)定增速，國(guó)內(nèi)市占率穩(wěn)步抬升。

光刻膠生產(chǎn)、檢測(cè)、評(píng)價(jià)的設(shè)備價(jià)格昂貴，需要一定前期資本投入；光刻膠企業(yè)通常運(yùn)營(yíng)成本較高，下游廠商認(rèn)證采購(gòu)時(shí)間較長(zhǎng)，為在設(shè)備、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，需要足夠的中后期資金支持。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金，光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘，國(guó)外光刻膠廠商相對(duì)于國(guó)內(nèi)廠商，其公司規(guī)模更大，具有資金和技術(shù)優(yōu)勢(shì)。一般情況下，一個(gè)芯片在制造過(guò)程中需要進(jìn)行10~50道光刻過(guò)程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過(guò)程對(duì)光刻膠的具體要求也不一樣，即使類似的光刻過(guò)程，不同的廠商也會(huì)有不同的要求。

總體上，光刻膠行業(yè)得到國(guó)家層面上的政策支持?！秶?guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》，提出“研發(fā)光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備，開(kāi)發(fā)光刻膠、大尺英寸硅片等關(guān)鍵材料”；全球市場(chǎng)目前，光刻膠單一產(chǎn)品市場(chǎng)規(guī)模與海外巨頭公司營(yíng)收規(guī)模相比較小，光刻膠僅為大型材料廠商的子業(yè)務(wù)。國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）中提到“高分辨率光刻膠及配套化學(xué)品作為精細(xì)化學(xué)品重要組成部分，是重點(diǎn)發(fā)展的新材料技術(shù)”；光刻技術(shù)（包括光刻膠）是《中國(guó)制造 2025》重點(diǎn)領(lǐng)域。

光刻膠國(guó)內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀

“造成與國(guó)際水平差距的原因很多。過(guò)去由于我國(guó)在開(kāi)始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。就拿在國(guó)際上具有一定競(jìng)爭(zhēng)實(shí)力的京東方來(lái)說(shuō)，目前已建立17個(gè)面板顯示生產(chǎn)基地，其中，有16個(gè)已經(jīng)投產(chǎn)。目前，整個(gè)產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強(qiáng)，前后兩端弱，核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。

光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時(shí)間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都很重要，必須全部指標(biāo)達(dá)到才能使用。因此，國(guó)外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面，對(duì)中國(guó)長(zhǎng)期保密。中國(guó)的研發(fā)技術(shù)有待進(jìn)一步發(fā)展

NR9-3000PY

11．請(qǐng)教~有沒(méi)有同時(shí)可以滿足RIE

process 和Lift-off

process的光阻，謝謝！

A 我們推薦使用Futurrex

NR1-300PY來(lái)滿足以上工藝的需求。

12．Futurre光刻膠里，有比較容易去除的負(fù)光阻嗎？

A NR9-系列很容易去除，可以滿足去膠需要。

13．我們目前用干膜做窄板，解析度不夠，希望找到好的替代光阻？

A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例，適合取代，在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

14．傳統(tǒng)的Color

filter 制程，每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí)，有沒(méi)有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘，同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變，只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！

15．請(qǐng)問(wèn)有專門為平坦化提供材料的公司嗎？

A 美國(guó)Futurrex公司，專門生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的，可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì)，臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

16．我需要一種可用于鋼板印刷的方式來(lái)涂布PROTECTIVE

COATING，那種適合？？

A 推薦美國(guó)Futurrex，PC4-10000。

17．臘是用來(lái)固定芯片的，但很難清洗干凈，哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下，謝謝？

A 我們公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的，而且去除比較容易，你可以試用下。

18．請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎？

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問(wèn)題，如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

19．誰(shuí)有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠？是否可以形成角度為30度的側(cè)壁？

A 你必須實(shí)現(xiàn)通過(guò)逐步透光來(lái)實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷，NR4-8000P是專門為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。