真空泵，隔膜泵機械密封的安裝與使用要求

1、機械密封對機器精度的要求：（以真空泵的機械密封為例）

（1）安裝機械密封部位的軸（或軸套）的徑向跳動公差不超過0.04～0.06mm.

（2）轉(zhuǎn)子軸向竄動不超過0.3mm.

（3）密封腔體與密封端蓋結合的定位端面對軸（或軸套）表面的跳動公差不超過0.04～0.06mm.

2、密封件的確認：

（1）確認所安裝的密封是否與要求的型號一致。

（2）安裝前要仔細地與總裝圖對照，零件數(shù)量是否齊全。

（3）采用并圈彈簧傳動的機械密封，其彈簧有左、右旋之分，須按轉(zhuǎn)軸的旋向來選擇。

真空鍍膜機的陰極電弧技術

真空鍍膜機的陰極電弧技術是利用真空環(huán)境下的弧光放電，使固體陰極靶材蒸發(fā)、離化并通過等離子體的強化作用，飛向陽極基體表面沉積成膜的技術。正因為如此，陰極電弧技術具有極高的沉積速率。

在含有惰性氣體或反應氣體的真空環(huán)境下沉積在基體表面，具有高能量的離子束對于提高膜基結合力和打亂膜的柱狀晶結構是非常有利的，從而也可大幅度改善膜的組織結構和力學性能。目前，各薄膜設備制造商通過對成膜原理和工藝的研究采用各種不同的措施來減少“液滴”的產(chǎn)生。

其中BAI1200、RCS是采用圓形平面陰極源技術和輻射加熱技術,可進行快速鍍膜生產(chǎn)。利用該工藝制備的TiAlN可增強加工工具切削刃的穩(wěn)定性，并使干切削加工成為可能。

濺鍍機設備與工藝（磁控濺鍍）

濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射槍（sputtergun）磁控濺射槍分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。

射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出濺鍍時須控制參數(shù)有濺射電流，電壓或功率，以及濺鍍壓力（5×10-1—1.0Pa），若各參數(shù)皆穩(wěn)定，膜厚可以鍍膜時間估計出來。

靶材的選擇與處理十分重要，純度要佳，質(zhì)地均勻，沒有氣泡、缺陷，表面應平整光潔。對于直接冷卻靶，須注意其在濺射后靶材變薄，有可能破損特別是非金屬靶。一般靶材薄處不可小于原靶厚之一半或5mm。

磁控濺鍍操作方式和一般蒸鍍相似，先將真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar氣（Ar）離子轟擊靶材，在5×10-1—1.0Pa的壓力下進行濺鍍其間須注意電流、電壓及壓力。開始時濺鍍?nèi)粲写蚧?，可緩慢調(diào)升電壓，待穩(wěn)定放電后再關shutter.在這個過程中，離子化的惰性氣體（Ar）清洗和暴露該塑膠基材表面上數(shù)個毛細微空，并通過該電子與自塑膠基材表面被清潔而產(chǎn)生一自由基，并維持真空狀態(tài)下施以濺鍍形成表面締結構，使表面締結構與自由基產(chǎn)生填補和高附著性的化學性和物理性的結合狀態(tài)，以在表面外穩(wěn)固地形成薄膜.其中，薄膜是先通過把表面造物大致地填滿該塑膠毛細微孔后并作鏈接而形成．