為了進行化學拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應將化學拋光的作用分為兩個階段來認識。一階段是化學拋光時金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

化學拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同。一般為混合酸液?；瘜W拋光溶液由氧化劑和粘滯劑組成。氧化劑起拋光作用，它們是酸類和。常用的酸類有：正磷酸、鉻酸、硫酸、醋酸、、等等。粘滯劑用于控制溶液中的擴散和對流速度，使化學拋光過程均勻進行。

化學拋光廣泛應用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用于對一些零件做裝飾加工?；瘜W拋光可作為電鍍前的處理工序，也可在拋光后輔以必要的防護措施而直接使用。

      化學拋光的過程是通過人為的控制金屬表面選擇性的溶解而使金屬表面達到整平和光亮的金屬加工過程。而選擇性的溶解，又是指被拋光面的金相學的、結(jié)晶學的以及幾何學的不均勻性受到不均勻的溶解，凸出部溶解多，而凹谷處溶解很少之意，結(jié)果表面就由凹凸不平而變得平整光亮。

化學拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學電位不同，形成了許多微電勢，在化學溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。不銹鋼化學拋光加工廠家

化學拋光：將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學溶液中，靠化學能量自然溶解金屬表面，獲得平滑光亮的表面?；瘜W拋光是金屬表面通過有規(guī)則溶解達到光亮平滑。在化學拋光過程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強于后者。

化學拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別。