半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子拋光又稱為“納米拋光”，是目前行業(yè)廣為應(yīng)用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理，在特定的浴液中將工件置于陽(yáng)極。在適溫環(huán)境下，溶液中產(chǎn)生能量巨大的等離子態(tài)，當(dāng)?shù)入x子與工件摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的材料去除。

隨著環(huán)保意識(shí)日漸加強(qiáng)，傳統(tǒng)拋光工藝已難以滿足行業(yè)對(duì)、綠色環(huán)保、低成本生產(chǎn)的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個(gè)、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。

等離子拋光技術(shù)中利用穩(wěn)定、自由的等離子，可到達(dá)手工/機(jī)械研磨所到不了的遮蔽位，進(jìn)行、無(wú)死角、高精度打磨，表面粗糙度Ra＜0.09μm。

傳統(tǒng)機(jī)械研磨由于利用離心力帶動(dòng)顆粒打磨，工件不可抵抗地受到強(qiáng)大外力撞擊，往往導(dǎo)致出現(xiàn)變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達(dá)工件遮蔽位，令很多細(xì)節(jié)得不到打磨。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。進(jìn)一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進(jìn)一步降低，使拋光效果進(jìn)一步優(yōu)化

等其他要求精度高標(biāo)準(zhǔn)的行業(yè)

如此精湛的技術(shù)拋光后的效果如何呢?

經(jīng)過(guò)多方對(duì)比之后發(fā)現(xiàn)，突破后的技術(shù)拋光出的產(chǎn)品就好像一面鏡子，表面光亮，無(wú)暇，光滑，和電鍍后的效果幾乎無(wú)異。