等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內，因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學物質。

等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子 核就形成了一個帶正電的離子,當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。對工件的任何一個面都能拋光。

等離子拋光加工廠家

提高生產效率。半自動、全自動環(huán)保等離子納米拋光設備通過藥劑可在十幾秒到兩分鐘內達到電鍍鏡面效果，大大提高了生產效率。

等離子拋光所產生的表面電流密度與液態(tài)電打磨相當，但由倍亮拋光自主研發(fā)的等離子拋光技術，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。

我們研發(fā)并應用無毒的拋光鹽來產生穩(wěn)定的等離子體，不僅獲取均勻一致的拋光效果，更避免了對人體有害的工作環(huán)境。低濃度的等離子液對環(huán)境友好，有效規(guī)避因污染環(huán)境帶來的經濟損失。

與傳統拋光工藝相比，環(huán)保等離子納米拋光工藝的優(yōu)勢主要表現在：

減輕環(huán)保壓力。輝碟自動化可以有限公司所使用的納米拋光液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會造成污染，也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費用低，有利于推廣，并且對加工環(huán)境無污染，適應綠色制造的發(fā)展方向。

全新拋光配方，針對金屬打印、鑄造、切削等工件拋光。穩(wěn)定、自由的納米級等離子，直達工件表面凹處及死角位進行精細拋光，獲得均勻的亮度表現。