鋼研納克直讀光譜儀，業(yè)界產(chǎn)品，中國直讀光譜儀者！源于中國冶金行業(yè)科研機(jī)構(gòu)鋼鐵研究總院，具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)，金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者。20年直讀光譜儀制造歷史，做更專業(yè)的光譜儀！直讀光譜儀國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位，央企品牌，上市公司，品質(zhì)服務(wù)優(yōu)選！  

直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用?？捎糜?Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。

鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)全譜掃描，可以廣泛適用于多種基體金屬樣品的全元素成分分析。SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀優(yōu)點(diǎn)不再受光電倍增管排布的空間限制，可以任意增加分析元素，無需增加硬件，維護(hù)保養(yǎng)方便。光譜儀激發(fā)光源為激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料，原位單次放電采集技術(shù)有效提高分析精度，網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。

1.    采用多個(gè)CCD對(duì)可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描

2.    激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料

3.    分析應(yīng)用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制

4.    單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染

5.    基于ARM9的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)

6.    網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)

7.    固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性

8.    銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能

想必大家對(duì)鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀有了更深刻的了解,想知道更多便攜式X熒光光譜儀，拉曼光譜儀,手持式X熒光光譜儀等不同類型光譜儀的資訊，敬請(qǐng)關(guān)注鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司=網(wǎng)站。

操作火花直讀光譜儀時(shí)應(yīng)注意要點(diǎn)

試料激發(fā)和計(jì)算機(jī)操作

①、為了安全起見，計(jì)算機(jī)的操作和激發(fā)試樣，必須由一個(gè)人操作到底。

②、試樣放好后，才能使用計(jì)算機(jī)的操作指令，激發(fā)試樣。

③、在激發(fā)崗位操作時(shí)要注意三點(diǎn)。一點(diǎn)要聽聲音，試料放置不好，有漏氣時(shí)，激發(fā)聲音則不正常。

第二點(diǎn)檢查激發(fā)放電斑點(diǎn)，凝聚放電是好的，擴(kuò)散放電(白點(diǎn))是不好的。第三點(diǎn)要檢查激發(fā)點(diǎn)的位置上

是否有微小裂紋，氣孔和砂眼，激發(fā)點(diǎn)有無重疊等，提供給數(shù)據(jù)處理工作時(shí)做重要的參考。

④、每個(gè)試樣，必須激發(fā)三次以上。

⑤、計(jì)算機(jī)操作時(shí)，應(yīng)記下爐號(hào)，次數(shù)和鋼種，并要記錄操作者的姓名。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。