電鍍廠操作說明：

1.請?jiān)谶^濾機(jī)出口處加裝塑膠凡而

2.使用前先打開排氣閥

3.關(guān)緊出口凡而后啟動(dòng)電源開關(guān)馬達(dá)開始運(yùn)轉(zhuǎn)，使氣體及液體經(jīng)由排入加藥槽。

4.打開循環(huán)閥，再打開加藥閥，使藥液在加藥槽內(nèi)產(chǎn)生固定水位后加入助濾粉，循環(huán)3分鐘后再加入活性碳粉再循環(huán)3分鐘，此時(shí)排出的液體同樣沒有活性碳粉排出即可。

5.利用檢測口閥，直接取樣檢查液體清潔程度及過濾效果。

6.打開出口凡而后，關(guān)緊循環(huán)閥，再關(guān)緊排氣閥，后看加藥槽內(nèi)藥液剩下少許再關(guān)緊加藥閥，完成加藥過程度使過濾機(jī)正常過濾。

蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。

作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn)，所述指環(huán)扣上還設(shè)置有上蓋，所述上蓋的邊緣上設(shè)置有第二凸邊，所述指環(huán)的內(nèi)圈上設(shè)置有第二內(nèi)軌，通過第二內(nèi)軌與第二凸邊的配合，把上蓋安裝第二內(nèi)軌內(nèi)。

作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn)，所述第二凸邊為階梯型凸邊，實(shí)現(xiàn)上蓋與指環(huán)可拆卸連接。

作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn)，所述旋轉(zhuǎn)蓋與所述指環(huán)在所述旋轉(zhuǎn)蓋的邊緣鉸接。