真空滲碳淬火真空滲碳淬火具有不產(chǎn)生晶界氧化，表面力學(xué)性能高，CO2排放較少。但存在碳勢控制難、設(shè)備投資比氣體滲碳高、多種材料的零部件難以同時(shí)處理而且質(zhì)量控制難等問題。氣體氮化爐升溫前應(yīng)先送氮?dú)馀艢?，排氣時(shí)流量應(yīng)比使用時(shí)大一倍以上。發(fā)展趨勢是：低價(jià)的真空滲碳爐開發(fā)會(huì)加速，同時(shí)研發(fā)適用于真空滲碳的鋼種也是重要的課題。并且開發(fā)具有低成本、氣氛自動(dòng)化管理、熱處理過程—質(zhì)量的一元化管理、異常時(shí)自律診斷等功能的真空滲碳設(shè)備將是主要發(fā)展方向?？煽貧夥諢崽幚頎t有哪些爐型？可控氣氛熱處理爐包括帶鋼連續(xù)式光亮退火爐、氣墊式鋁材生產(chǎn)線退火爐、多用爐聯(lián)合機(jī)組、連續(xù)滲碳爐、輥底式爐、網(wǎng)帶式爐、罩式爐等。熱處理爐有何重要作用？熱處理爐及其輔助設(shè)備是完成熱處理工序的必要重要裝置，這類設(shè)備對(duì)熱處理效果和產(chǎn)品質(zhì)量起著決定性的作用

等離子滲碳淬火

和真空滲碳一樣具有CO2排放較少，工作環(huán)境好等，另外還有能處理鈦合金滲碳，可低溫滲碳、滲碳濃度可控等優(yōu)點(diǎn)。但缺點(diǎn)是存在再現(xiàn)性較差，大量生產(chǎn)困難，設(shè)備昂貴。

發(fā)展趨勢是：這種技術(shù)主要是傾向在不銹鋼和鈦合金中推廣，同時(shí)在適合量產(chǎn)和降低設(shè)備費(fèi)用上進(jìn)行開發(fā)研究。在等離子滲碳技術(shù)普及的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)高溫短時(shí)滲碳的低成本設(shè)備的開發(fā)和普及是主要的發(fā)展方向。

高溫真空氣氛井式爐技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)

井式電爐,集溫度控制系統(tǒng)、真空爐膛、真空泵、氣路、壓力保護(hù)、氣體流量控制、正負(fù)壓顯示、水循環(huán)水泵為一體，水循環(huán)箱與爐體為粉體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料制作而成。

采用高溫U型等直徑硅碳棒為加熱元件；是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對(duì)陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的專用設(shè)備。

控制面板配有智能溫度調(diào)節(jié)儀，控制電源開關(guān)、主加熱工作 /停止按鈕，電壓、電流表、計(jì)算機(jī)接口，水泵開關(guān)，真空泵開關(guān)，氣體流量計(jì)，正負(fù)壓壓力表，電接點(diǎn)壓力表，閥門，以便隨時(shí)觀察本系統(tǒng)的工作狀態(tài)，靈活方便、操作簡單。

控溫精度：±1℃無超調(diào) 恒溫精度：±1℃。升溫速度快，升溫速率≤45/min。

爐膛材料全部采用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，使用溫度高，蓄熱量小，耐急熱急冷、不裂縫、不掉渣、保溫性能好（節(jié)能效果是老式電爐的60%以上）。結(jié)構(gòu)合理，內(nèi)外雙層爐套，風(fēng)冷散熱，可大大縮短試驗(yàn)周期。

　氣體滲碳爐的五大爭取操作步驟方法

　　氣體氮化爐具有處理溫度低，時(shí)間短，工件變形小的特點(diǎn)。

　　1.滲氮前的氣體氮化爐需要是先經(jīng)過正火或調(diào)質(zhì)處理過的工件。

　　2.先用和酒精擦洗氣體氮化爐工件表面，不得有銹斑、油污、臟物存在。

　　3.裝入爐內(nèi)后，對(duì)稱擰緊爐蓋壓緊螺栓。

　　4.將爐罐和爐蓋進(jìn)水口通入冷卻水進(jìn)行循環(huán)水冷。氣體氮化爐爐蓋上管道冷卻水下端為進(jìn)水，上端為出水，爐罐單獨(dú)進(jìn)水，單獨(dú)排水，氣體氮化爐爐蓋所有水管可按低進(jìn)高出原則串聯(lián)，由一個(gè)口進(jìn)水，一個(gè)口排水。

　　5.氣體氮化爐升溫前應(yīng)先送氮?dú)馀艢猓艢鈺r(shí)流量應(yīng)比使用時(shí)大一倍以上。

　　排氣10分鐘后，將控溫儀表設(shè)定到150℃，自動(dòng)加熱開關(guān)撥向開，氣體氮化爐邊排氣邊加熱150℃保持2h排氣，再將控溫儀表設(shè)定到530℃，把氨氣流量調(diào)小，保持爐內(nèi)正壓，排氣口有較小氣流向上的壓力，當(dāng)爐溫升到530℃時(shí)，恒溫恒流滲氮3-20h，再將氨氣壓力調(diào)大一點(diǎn)，讓排氣維持適中壓力，滲氮4-70h， 再將氨氣壓力調(diào)小，退氮1-2h，切斷電源，給少量氨氣，使?fàn)t內(nèi)維持正壓，待爐溫降到150℃以下方可停止供氨出爐。是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對(duì)陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的專用設(shè)備。