化學(xué)沉鎳的發(fā)展歷史

現(xiàn)在電鍍?cè)谖覈?guó)發(fā)展的已經(jīng)比較成熟，不僅有鍍硬鉻、裝飾鉻，還有電鍍鎳，沉鎳金即化學(xué)沉鎳等技術(shù)。那么今天就隨漢銘表面處理來(lái)看看化學(xué)沉鎳的發(fā)展歷史。

自 1997 年以來(lái)， 化學(xué)沉鎳工藝在國(guó)內(nèi)得到迅速推廣， 這得益于化學(xué)沉鎳工藝本身所帶來(lái)種種優(yōu)點(diǎn)。 由于化學(xué)沉鎳板鎳金層的分散性好、 有良好的焊接及多次焊接性能、 良好的打線(xiàn)性能、 能兼容各種助焊劑， 同時(shí)又是一種較好的銅面保護(hù)層。 

因此， 與熱風(fēng)整平、 有機(jī)保焊膜（OSP） 等 PCB 表面處理工藝相比，化學(xué)沉鎳鍍層可滿(mǎn)足更多種組裝要求， 具有可焊接、 可接觸導(dǎo)通、 可打線(xiàn)、 可散熱等功能， 同時(shí)其板面平整、 SMD 焊盤(pán)平坦， 適合于細(xì)密線(xiàn)路、 細(xì)小焊盤(pán)的錫膏熔焊， 能較好地用于 COB 及BGA 的制作。 

化學(xué)沉鎳板可用于并能滿(mǎn)足到移動(dòng)電話(huà)、 尋呼機(jī)、 計(jì)算機(jī)、 筆記型電腦、 IC卡、 電子字典等諸多電子工業(yè)。 而隨著這些行業(yè)持久、 迅猛的發(fā)展， 化學(xué)沉鎳工藝亦將得到更多的應(yīng)用與發(fā)展機(jī)會(huì)。

化學(xué)沉鎳工藝， 準(zhǔn)確的說(shuō)法應(yīng)為化鎳浸金工藝 ,但現(xiàn)在在業(yè)界有多種叫法， 除”化學(xué)沉鎳”、 ”化鎳浸金”外， 尚有”無(wú)電鎳金”、 ”沉鎳金”。 

缸體排布在化學(xué)沉鎳工藝中有什么影響？

現(xiàn)在電鍍工藝廣泛應(yīng)用于制造行業(yè)，那么如何在生產(chǎn)中提高化學(xué)沉鎳的質(zhì)量呢？

如果想要在生產(chǎn)中可避免許多難以預(yù)料的工藝問(wèn)題，那么在新設(shè)計(jì)化學(xué)沉鎳線(xiàn)或?qū)⑴f生產(chǎn)線(xiàn)改造成化學(xué)沉鎳線(xiàn)時(shí)， 能不能做到根據(jù)生產(chǎn)流程優(yōu)化缸位排布就顯得極其重要了。

因此， 我們應(yīng)當(dāng)事先多花功夫去研究哪一種缸體排布或怎樣的一個(gè)行車(chē)程序是蕞合理的、 所帶來(lái)的生產(chǎn)問(wèn)題可能減到蕞小。

 例如： 化學(xué)沉鎳板可焊性不良的問(wèn)題， 除了板面污染外， 鎳面鈍化是很主要的一個(gè)成因， 要防止鎳面鈍化， 就必須考慮到化學(xué)沉鎳、 沉金之間的控制， 包括行車(chē)時(shí)間長(zhǎng)短、 滴水時(shí)間長(zhǎng)短（這些是板在空氣中的停留時(shí)間）； 水洗（尤其是 DI 水洗） 及空氣攪拌的大小。因此， 鎳缸與金缸之間的距離不能相距太遠(yuǎn)。 此外， 活化缸不宜太靠近鎳缸， 否則， 要水的交叉污染（行車(chē)移動(dòng)時(shí)的飛巴滴液、 鎳缸的熱蒸氣滴液等） 會(huì)使缸壽命變短及嚴(yán)重影響生產(chǎn)板品質(zhì)。

化學(xué)沉鎳的優(yōu)點(diǎn)居然這么強(qiáng)，你知道嗎？

工件電鍍相信大家都不陌生，關(guān)于電鍍也有很多不同的形式，今天漢銘表面處理要向大家介紹的就是化學(xué)沉鎳。

關(guān)于化學(xué)沉鎳，相信大家都很好奇它的工藝特點(diǎn)，那么就讓漢銘來(lái)為大家解答。

厚度均勻和均鍍能力好是化學(xué)沉鎳的一大特點(diǎn)，也是應(yīng)用廣泛的原因之一，化學(xué)沉鎳避免了電鍍層由于電流分布不均勻而帶來(lái)的厚度不均勻，電鍍層的厚度在整個(gè)零件，尤其是形狀復(fù)雜的零件上差異很大，在零件的邊角和離陽(yáng)極近的部位，鍍層較厚，而在內(nèi)表面或離陽(yáng)極遠(yuǎn)的地方鍍層很薄，甚至鍍不到，采用化學(xué)鍍可避免電鍍的這一不足?；瘜W(xué)鍍時(shí)，只要零件表面和鍍液接觸，鍍液中消耗的成份能及時(shí)得到補(bǔ)充，任何部位的鍍層厚度都基本相同，即使凹槽、縫隙、盲孔也是如此。

并且化學(xué)沉鎳不存在氫脆的問(wèn)題，一般那電鍍是利用電源能將鎳陽(yáng)離子轉(zhuǎn)換成金屬鎳沉積到陽(yáng)極上，用化學(xué)還原的方法是使鎳陽(yáng)離子還原成金屬鎳并沉積在基體金屬表面上，試驗(yàn)表明，鍍層中氫的夾入與化學(xué)還原反應(yīng)無(wú)關(guān)，而與電鍍條件有很大關(guān)系，通常鍍層中的含氫量隨電流密度的增加而上升。