以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：

　　稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質優(yōu)的高拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低拋光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

對于高拋光粉來講，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環(huán)拋光時（石英、光學鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。

在稀土拋光粉的消費中，日本是消費者，每年約生產3550噸~4000噸拋光粉，產值35億~40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，而平面顯示產品產量迅速增加，對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移，如：日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用基拋光粉。