真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來(lái)作較好產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見(jiàn)的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.

東莞市仁睿電子科技有限公司主營(yíng)加工：光學(xué)鍍膜、光學(xué)玻璃鍍膜、光學(xué)鏡片鍍膜、真空光學(xué)鍍膜、光學(xué)真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機(jī)殼。

在電子學(xué)方面光學(xué)鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。

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光學(xué)鍍膜的假設(shè)前提與實(shí)際鍍膜存在一些差異，如層與層的邊界存在著材料的相互滲透，膜層內(nèi)部的折射率不均勻，非相干穿透等誤差。

通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積光學(xué)鍍膜的過(guò)程。

實(shí)質(zhì)上離子鍍系光學(xué)鍍膜和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。