我國作為電鍍大國，各種先進技術都有體現。真空電鍍工作有著寬廣的展開前景。未來我國電鍍工作將向以下四個方向展開：一、傳統裝修性電鍍將被噴涂、物相堆積等代替，功能性電鍍產品需求則有上升的趨勢；二、某些污染嚴峻的電鍍工藝將被清潔的電鍍工業(yè)所代替；三、部分性能好、無污染的表面工程的高新技術將進入我國商場。四、隨著轎車、電子、家用電器、航空、航天工業(yè)、建筑工業(yè)及相應的裝修工業(yè)的展開以及人們對美化日子需求的不斷提高,對真空電鍍產品的裝修性和抗蝕性的需求將明顯增加。

電弧或弧光放電的基本概念：電弧或弧光放電是氣體放電的一種方法。氣體放電在性質上和外觀上是各式各樣的。在正常狀況下，氣體有杰出的電氣絕緣功用。但當在氣體空位的兩頭加上足夠大的電場時，就可以致使電流通過氣體。這種現象稱為放電。放電現象與氣體的種類和壓力、電極的資料和幾何形狀、南北極間的間隔以及加在空位兩頭的電壓等要素有關。例如在正常狀況下，給氣體空位兩頭的電極加壓到必定程度時，一般空氣中電子在電場效果下高速運動，與氣體分子磕碰后產生較多的電子和離子，真空電鍍設備重生的電子和離子又同中性原子磕碰，產生更多的電子和離子，這時，氣體開始發(fā)光，兩電極變?yōu)榛馃?，電流增大。這種性質上的改動稱為氣體空位的擊穿，其所需的電壓稱為擊穿電壓。 這時，因為電場的支撐，放電并不中止，故稱為自我按捺放電。電弧則是氣體自我按捺放電的一種方法。電弧具有電流密度大和陰極電位下降的特征。

真空電鍍生產廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。