PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應(yīng)用時間長的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導(dǎo)給PVD鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應(yīng)用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來。

至成真空十多年來專業(yè)從事各種真空鍍膜應(yīng)用設(shè)備制造，多年來致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設(shè)備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

真空鍍膜機給物件鍍膜,為什么要在真空狀態(tài)下進(jìn)行?

真空鍍膜機已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生活中，大家對它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應(yīng)用領(lǐng)域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機在給物件鍍上一層膜的時候，為什么要選擇在真空狀態(tài)下進(jìn)行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結(jié)果，比如在10托數(shù)量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機械強度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進(jìn)行，這是因為：

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當(dāng)?shù)母?可達(dá)每秒幾百米)，但是由于它在前進(jìn)的過程中要與其它分子多次碰撞，一個分子在兩次連續(xù)碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統(tǒng)計平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內(nèi)含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳?xì)浠衔锏?，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應(yīng)；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命；它們在已蒸發(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進(jìn)行。

因此現(xiàn)在市面上有多功能離子真空鍍膜機的出現(xiàn)，通過大量試驗及工業(yè)化應(yīng)用，本項目得出以下結(jié)論：

（1）所設(shè)計的多種鍍膜技術(shù)復(fù)合的多功能離子鍍膜機是成功的。

（2）該設(shè)備可大面積低成本制備表面光潔致密、平滑細(xì)膩，性能優(yōu)異的類金剛石膜及金屬氮（或碳）化物多元多層膜。

（3）采用特殊的多層梯度中間過渡層及摻雜技術(shù)，降低了內(nèi)應(yīng)力，提高了膜/基結(jié)合力，有利于膜層生長（厚達(dá)6mm）。

（4）所制備DLC膜具有優(yōu)異的綜合性能：硬度>20GPa（高達(dá)37.25GPa），厚度可調(diào)（厚達(dá)6mm），膜/基結(jié)合力>50N（高達(dá)100N），摩擦系數(shù)<0.2，膜層光潔細(xì)膩。

（5）所開發(fā)出的基體/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN/CrTiC/DLC多元多層耐磨耐熱自潤滑涂層具有良好的綜合性能：硬度高達(dá)28.7GPa，厚度1-4mm可調(diào)，膜/基結(jié)合力大于70N，摩擦系數(shù)小于0.2。

（6）所研制的耐磨減摩膜已成功應(yīng)用于多種高精密工模具以及精密關(guān)鍵部件上。應(yīng)用結(jié)果表明：膜層的表面強化效果顯著，可大幅度提高產(chǎn)品質(zhì)量及使用壽命。